[发明专利]气体阻隔膜有效
| 申请号： | 201680066364.7 | 申请日： | 2016-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN108349210B | 公开（公告）日： | 2020-05-12 |
| 发明（设计）人： | 河村朋纪 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达株式会社 |
| 主分类号： | B32B9/00 | 分类号： | B32B9/00;B65D65/40;C23C16/42;H01L51/50;H05B33/04 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 贾成功 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 气体 阻隔 | ||
1.一种气体阻隔膜，其特征在于，其在基材上具有至少含有硅原子(Si)、氧原子(O)和碳原子(C)的气体阻隔层，
在通过X射线光电子分光法所得到的光谱中，将气体阻隔层的层厚方向的由来自硅原子(Si)、氧原子(O)和碳原子(C)的峰强度的比率所换算的组成比的合计量设为100％时，基于与碳原子有关的C1s的波形解析的由来自于C-C、C＝C和C-H键的峰强度的比率所换算的组成比的比例X(％)满足下述(1)，
(1)：对于上述气体阻隔层的层厚方向，将上述气体阻隔层的最表面的层厚设为0％、与上述基材的界面的层厚设为100％时，层厚5～30％区域中的上述比例X的最大值(％)为5～41(％)的范围内。
2.根据权利要求1所述的气体阻隔膜，其特征在于，上述层厚5～30％区域中的上述比例X的平均值(％)为2～20％的范围内。
3.根据权利要求1或2所述的气体阻隔膜，其特征在于，上述层厚5～30％区域中的上述比例X的最小值(％)为1～10％的范围内。
4.根据权利要求1或2所述的气体阻隔膜，其特征在于，上述层厚5～30％区域中的上述比例X的最大值(％)比层厚30～95％区域中的上述比例X的最大值(％)大。
5.根据权利要求1或2所述的气体阻隔膜，其特征在于，上述层厚5～30％区域中的上述比例X的平均值(％)比层厚30～95％区域中的上述比例X的平均值(％)大。
6.根据权利要求1或2所述的气体阻隔膜，其特征在于，上述层厚5～30％区域中的上述比例X的最小值(％)比层厚30～95％区域中的上述比例X的最小值(％)大。
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