[发明专利]具有涂覆于圆柱形对称元件上的目标材料的激光产生的等离子体光源在审
申请号: | 201680066705.0 | 申请日: | 2016-11-16 |
公开(公告)号: | CN108293290A | 公开(公告)日: | 2018-07-17 |
发明(设计)人: | A·库里岑;B·阿尔;R·加西亚;F·基莱塞;O·霍德金 | 申请(专利权)人: | 科磊股份有限公司 |
主分类号: | H05G2/00 | 分类号: | H05G2/00 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 张世俊 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 目标材料 涂覆 等离子体光源 激光产生 轴承系统 减少污染物 圆柱形对称 表面平滑 注入系统 刮刷器 壳体 轴承 冷却 泄漏 补充 | ||
1.一种装置,其包括:
定子主体;
圆柱形对称元件,其可围绕轴旋转且具有涂覆有形成等离子体的目标材料的表面以供由驱动激光器辐照以在激光产生的等离子体LPP室中产生等离子体,所述元件从第一端延伸到第二端;
气体轴承组合件,其将所述圆柱形对称元件的所述第一端耦合到所述定子主体,所述气体轴承组合件形成轴承气流且具有通过将障壁气体引入到与所述轴承气流流体连通的第一空间中而减少轴承气体到所述LPP室中的泄漏的系统;及
第二轴承组合件,其将所述圆柱形对称元件的所述第二端耦合到所述定子主体,所述第二轴承具有通过将障壁气体引入到与所述第二轴承流体连通的第二空间中而减少污染物材料从所述第二轴承到所述LPP室中的泄漏的系统。
2.根据权利要求1所述的装置,其中所述第二轴承组合件是磁性轴承,且所述污染物材料包括由所述磁性轴承产生的污染物。
3.根据权利要求1所述的装置,其中所述第二轴承组合件是经润滑轴承,且所述污染物材料包括由所述经润滑轴承产生的污染物。
4.根据权利要求1所述的装置,其中所述第二轴承组合件是气体轴承组合件,且所述污染物材料是轴承气体。
5.根据权利要求1所述的装置,其中所述圆柱形对称元件安装于心轴上,且减少轴承气体到所述LPP室中的泄漏的所述系统包括:第一环形凹槽,其处于所述定子主体及所述心轴中的一者中、与所述第一空间流体连通且经布置以从所述第一空间的第一部分排出所述轴承气体;第二环形凹槽,其处于所述定子主体及所述心轴中的一者中、与所述第一空间流体连通且经布置以在第二压力下将障壁气体输送到所述第一空间的第二部分中;及第三环形凹槽,其处于所述定子主体及所述心轴中的一者中、与所述第一空间流体连通,所述第三环形凹槽沿平行于所述轴的轴向方向安置于所述第一环形凹槽与所述第二环形凹槽之间,且经布置以将所述轴承气体及所述障壁气体输送出所述第一空间的第三部分以在所述第三部分中产生小于第一压力及所述第二压力的第三压力。
6.根据权利要求1所述的装置,其中所述圆柱形对称元件安装于心轴上,且减少污染物材料到所述LPP室中的泄漏的所述系统包括:第一环形凹槽,其处于所述定子主体及所述心轴中的一者中、与所述第一空间流体连通且经布置以从所述第一空间的第一部分排出污染物材料;第二环形凹槽,其处于所述定子主体及所述心轴中的一者中、与所述第一空间流体连通且经布置以在第二压力下将障壁气体输送到所述第一空间的第二部分中;及第三环形凹槽,其处于所述定子主体及所述心轴中的一者中、与所述第一空间流体连通,所述第三环形凹槽沿平行于所述轴的轴向方向安置于所述第一环形凹槽与所述第二环形凹槽之间,且经布置以将所述污染物材料及所述障壁气体输送出所述第一空间的第三部分以在所述第三部分中产生小于第一压力及所述第二压力的第三压力。
7.根据权利要求1所述的装置,其进一步包括位于所述圆柱形对称元件的所述第一端处的驱动单元,所述驱动单元具有用于使所述圆柱形对称元件沿所述轴平移的线性电动机组合件及用于使所述圆柱形对称元件围绕所述轴旋转的旋转电动机。
8.根据权利要求1所述的装置,其中所述形成等离子体的目标材料是氙冰。
9.根据权利要求1所述的装置,其中所述轴承气体选自由氮、氧、净化空气、氙及氩组成的气体群组。
10.根据权利要求1所述的装置,其中所述障壁气体选自由氙及氩组成的气体群组。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于科磊股份有限公司,未经科磊股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680066705.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:确定X射线系统的X射线管的状况
- 下一篇:活性气体生成装置及成膜处理装置