[发明专利]基板处理装置的腔室清洁方法

权利要求书

1.一种基板处理装置的腔室清洁方法，其对基板处理装置中的腔室内进行清洁，上述基板处理装置具有上述腔室、在上述腔室内保持被处理基板的台、以及向上述被处理基板照射气体团束的喷嘴部，并具有利用上述气体团束处理上述被处理基板的功能，

其中，上述基板处理装置的腔室清洁方法包含：

在上述腔室内设置规定的反射部件；和

向上述反射部件照射气体团束，使被上述反射部件反射的气流碰撞上述腔室的壁部，而除去附着于上述腔室的壁部的颗粒。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置的腔室清洁方法，其中，

在上述台设置虚拟基板作为上述反射部件，一边使上述台上下移动，一边向上述虚拟基板照射上述气体团束，使被上述虚拟基板反射的气流碰撞上述腔室的侧壁，而除去附着于该侧壁的颗粒。

3.根据权利要求1所述的基板处理装置的腔室清洁方法，其中，

在上述腔室内以能够旋转的方式设置异形的反射板作为上述反射部件，一边使上述反射板旋转，并且使上述喷嘴部移动，一边从上述喷嘴部向上述反射板照射气体团束，使被上述反射板朝各种方向反射的气流碰撞上述腔室的整个内壁，而除去上述腔室内的内壁的颗粒。

4.根据权利要求1所述的基板处理装置的腔室清洁方法，其中，

在上述台设置虚拟基板，并且在上述腔室内以能够旋转的方式设置异形的反射板，来作为上述反射部件，

并且进行如下两个步骤：

一边使上述台上下移动，一边向上述虚拟基板照射上述气体团束，使被上述虚拟基板反射的气流碰撞上述腔室的侧壁，而除去附着于该侧壁的颗粒；以及

一边使上述反射板旋转，并且使上述喷嘴部移动，一边从上述喷嘴部向上述反射板照射气体团束，使被上述反射板朝各种方向反射的气流碰撞上述腔室的整个内壁，而除去上述腔室内的内壁的颗粒。

5.一种基板处理装置的腔室清洁方法，其对基板处理装置中的腔室内进行清洁，上述基板处理装置具有上述腔室、在上述腔室内保持被处理基板的台、以及向上述被处理基板照射气体团束的喷嘴部，并具有利用上述气体团束处理上述被处理基板的功能，

其中，上述基板处理装置的腔室清洁方法具有：

第一步骤，包含：在上述腔室内设置规定的反射部件；和向上述反射部件照射气体团束，使被上述反射部件反射的气流碰撞上述腔室的壁部，而除去附着于上述腔室的壁部的颗粒；和

第二步骤，从上述腔室排出被除去的上述颗粒。

6.根据权利要求5所述的基板处理装置的腔室清洁方法，其中，

在上述第一步骤中，在上述台设置虚拟基板作为上述反射部件，一边使上述台上下动作，一边向上述虚拟基板照射上述气体团束，使被上述虚拟基板反射的气流碰撞上述腔室的侧壁，而除去附着于该侧壁的颗粒。

7.根据权利要求5所述的基板处理装置的腔室清洁方法，其中，

在上述第一步骤中，在上述腔室内以能够旋转的方式配置异形的反射板作为上述反射部件，一边使上述反射板旋转，并且使上述喷嘴部移动，一边从上述喷嘴部向上述反射板照射气体团束，使被上述反射板朝各种方向反射的气流碰撞上述腔室的内壁整体，而除去上述腔室内的内壁的颗粒。

8.根据权利要求5所述的基板处理装置的腔室清洁方法，其中，

在上述第一步骤中，

在上述台设置虚拟基板，并且在上述腔室内以能够旋转的方式设置异形的反射板，来作为上述反射部件，

并且进行如下两个步骤：

一边使上述台上下移动，一边向上述虚拟基板照射上述气体团束，使被上述虚拟基板反射的气流碰撞上述腔室的侧壁，而除去附着于该侧壁的颗粒；以及

一边使上述反射板旋转，并且使上述喷嘴部移动，一边从上述喷嘴部向上述反射板照射气体团束，使被上述反射板朝各种方向反射的气流碰撞上述腔室的内壁整体，而除去上述腔室内的内壁的颗粒。

9.根据权利要求5所述的基板处理装置的腔室清洁方法，其中，

通过上述腔室内的吹扫以及排气来进行上述第二步骤。