[发明专利]确定X射线系统的X射线管的状况

权利要求书

1.一种用于确定X射线系统(36)的X射线管(10)的状况的设备(34)，包括：

输入接口(38)；

输出接口(40)；以及

处理单元(42)；

其中，所述输入接口被配置为接收参考数据集，所述参考数据集表示在X射线系统的预定控制方案下的X射线管的探测的X射线辐射(30)的多个谱不同的参考值(44)；

其中，所述输入接口被配置为接收工作数据集，所述工作数据集表示在所述X射线系统的相同的预定控制方案下的所述X射线管的探测的X射线辐射的多个谱不同的工作值(46)，其中，由对所述X射线管的使用引起的X射线过滤被应用在所述X射线管的X射线辐射路径(48)处；

其中，所述处理单元被配置为基于所述参考数据集和所述工作数据集确定指示所述X射线过滤的所述X射线管的所述X射线辐射的过滤函数；

其中，所述处理单元被配置为基于所述过滤函数确定所述X射线管的状况；

其中，所述输出接口被配置为提供所述X射线管的所述状况用于另外的目的；并且

其特征在于，所述处理单元被配置为基于所述过滤函数确定吸收谱；并且其中，所述处理单元被配置为基于所述吸收谱确定所述X射线管的所述状况。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述处理单元被配置为基于所述过滤函数确定吸收长度；并且其中，所述处理单元被配置为基于所述吸收长度确定所述X射线管的所述状况。

3.根据权利要求1或2所述的设备，其中，所述处理单元被配置为确定对应于所述参考数据集与所述工作数据集的比、或所述工作数据集与所述参考数据集的比的另外的数据集；并且其中，所述处理单元被配置为基于所述另外的数据集确定所述过滤函数。

4.根据权利要求1或2所述的设备，其中，所述处理单元被配置为基于所述过滤函数确定吸收材料；并且其中，所述处理单元被配置为基于所述吸收材料确定所述X射线管的所述状况。

5.一种X射线系统，包括：

X射线管；

X射线探测器布置(32)；

X射线系统控制器(56)；

根据权利要求1至4中任一项所述的设备；

其中，所述X射线系统控制器被配置为根据所述控制方案来控制所述X射线系统。

6.根据权利要求5所述的系统，其中，所述X射线探测器布置被配置为在所述控制方案下探测所述X射线管的所述X射线辐射，从而得到所述多个谱不同的工作值。

7.根据权利要求6所述的系统，其中，所述X射线系统控制器被配置为根据所述控制方案来控制所述X射线系统，使得对应于被应用于探测所述参考值的不同X射线管电压的不同X射线管电压随后被应用于探测所述工作值。

8.根据权利要求6或7所述的系统，其中，所述X射线探测器布置包括多个X射线探测器层(58)，其中，所述X射线系统控制器被配置为根据所述控制方案来控制所述X射线系统；其中，所述X射线探测器层包括不同的有效响应，使得每个X射线探测器层提供表示所述工作值中的一个的探测器子信号。

9.根据权利要求6或7所述的系统，其中，所述X射线探测器布置包括具有能量鉴别的光子计数探测器，所述光子计数探测器被配置为探测个体X射线光子，估计所述个体X射线光子的光子能量并且在分别的能量箱中对这些光子进行计数，每个能量箱表示一能量区间。