[发明专利]含酚性羟基树脂及抗蚀膜

说明书

以提供显影性、耐热性及基板追随性优异的含酚性羟基树脂、含有其的感光性组合物、固化性组合物、及抗蚀膜为课题。使以三芳基甲烷型化合物(A)和醛化合物(B)作为必需成分反应而得到的酚醛清漆树脂中间体、与碳原子数9～24的烯烃化合物(C)进行反应而得到的含酚性羟基树脂、含有该含酚性羟基树脂的感光性组合物、固化性组合物、及抗蚀膜。

技术领域

本发明涉及显影性、耐热性及基板追随性优异的含酚性羟基树脂及使用其形成的抗蚀膜。

背景技术

含酚性羟基树脂除了用于粘合剂、成形材料、涂料、光致抗蚀剂材料、环氧树脂原料、环氧树脂用固化剂等以外，固化物的耐热性、耐湿性等优异，因此，作为以含酚性羟基树脂本身为主剂的固化性组合物、或者作为环氧树脂等的固化剂，广泛用于半导体密封材料、印刷电路板用绝缘材料等电气/电子领域。

其中，在光致抗蚀剂的领域中，不断开发出根据用途、功能而细分化的多种多样的抗蚀图案形成方法，与之相伴，对于抗蚀剂用树脂材料的要求性能也高度化且多样化。例如，用于在高集成化的半导体上正确且以高生产效率形成微细图案的高显影性毋庸置疑是必要的，在形成厚膜时固化物柔软且不易破裂等性能也是必要的，在用于抗蚀剂下层膜时，要求有耐干蚀刻性、耐热性等，另外，在用于抗蚀剂永久膜时，除了耐热性之外，还要求基材追随性等韧性。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平2-55359号公报

发明内容

发明要解决的问题

因此，本发明要解决的课题在于，提供显影性、耐热性及基板追随性优异的含酚性羟基树脂、含有其的感光性组合物及固化性组合物、抗蚀膜。

用于解决问题的方案

本发明人等为了解决上述课题进行了深入研究，结果发现：将具有酚性羟基的三芳基甲烷型化合物酚醛清漆化、用长链的烃基对其进行改性而得到的含酚性羟基树脂的显影性、耐热性及基板追随性优异，从而完成了本发明。

即，本发明涉及一种含酚性羟基树脂，其特征在于，具有下述结构式(1)所示的结构部位作为重复单元，且树脂中存在的R²或R³中的至少一个为碳原子数9～24的脂肪族烃基。

[式中，R¹为氢原子、烷基、芳基中的任意者，X为下述结构式(2)所示的结构部位(α)或下述结构式(3)所示的结构部位(β)中的任意者。

[式中，k为0、1、2中的任意者。R²各自独立地为氢原子、脂肪族烃基、含芳香环烃基、烷氧基、卤素原子中的任意者，l各自独立地为1～4的整数。R³为氢原子、脂肪族烃基、含芳香环烃基、烷氧基、卤素原子中的任意者，m为1～4的整数。＊为与图中示出的3个芳香环中的任意者的键合点，2个＊可以与同一芳香环键合，也可以各自与不同的芳香环键合。]

[式中，k为0、1、2中的任意者。R²各自独立地为氢原子、脂肪族烃基、含芳香环烃基、烷氧基、卤素原子中的任意者，l各自独立地为1～4的整数。R³为氢原子、脂肪族烃基、含芳香环烃基、烷氧基、卤素原子中的任意者，n为1～6的整数。＊为与图中示出的3个芳香环中的任意者的键合点，2个＊可以与同一芳香环键合，也可以各自与不同的芳香环键和。]。]。