[发明专利]电子材料用清洗剂组合物、清洗剂原液和电子材料的清洗方法有效
| 申请号： | 201680070975.9 | 申请日： | 2016-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN108779419B | 公开（公告）日： | 2021-04-20 |
| 发明（设计）人： | 井内洋介;田中俊 | 申请（专利权）人： | 荒川化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C11D7/32 | 分类号： | C11D7/32;C11D7/26;C11D7/50;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 宋融冰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 电子 材料 洗剂 组合 原液 清洗 方法 | ||
1.一种电子材料用清洗剂组合物，其特征在于，
所述清洗剂组合物含有与水共沸的叔胺A和水B，
所述叔胺A的沸点在1个大气压下为130～250℃，
叔胺A在所述清洗剂组合物中的所述叔胺A和所述水B的总计中的重量比、小于等于叔胺A在由叔胺A和水B构成的共沸混合物中的重量比，所述重量比以％表示，
所述叔胺A是由通式(3)表示的聚胺A2：
通式(3)：(R4)R5N-C2H4-Z-C2H4-NR6(R7)，在通式(3)中，R4、R5、R6和R7分别表示相同或不同的碳原子数为1～3的烷基，Z表示-CH2-、-(CH2)2-、-O-、-NH-或-N(CH3)-，
所述聚胺A2选自N,N,N’,N’-四甲基己二胺、N,N,N’,N’-四乙基己二胺、1,1,7,7,-四甲基二亚乙基三胺、1,1,7,7,-四乙基二亚乙基三胺以及N,N,N’,N”,N”-五甲基二亚乙基三胺中的至少一种，
所述清洗剂组合物还含有与水共沸的由通式(1)表示的二元醇类溶剂C，
通式(1)：R1-O-[CH2-CH(X)-O]n-H，在通式(1)中，R1表示碳原子数为1～4的烷基，n表示1～3，X表示氢或甲基，
所述二元醇类溶剂C的沸点在1个大气压下为120～275℃，
二元醇类溶剂C在所述清洗剂组合物的所述二元醇类溶剂C和所述水B的总计中的重量比、小于等于二元醇类溶剂C在由二元醇类溶剂C和水B构成的共沸混合物中的重量比，所述重量比以％表示。
2.根据权利要求1所述的电子材料用清洗剂组合物，其特征在于，
所述叔胺A在所述叔胺A和所述水B的总计中的重量比即A/(A+B)为1/100000以上。
3.根据权利要求1所述的电子材料用清洗剂组合物，其特征在于，
所述叔胺A和所述二元醇类溶剂C的总计、在所述叔胺A和所述水B和所述二元醇类溶剂C的总计中的重量比即(A+C)/(A+B+C)为1/100000以上。
4.一种清洗剂原液，含有用于制备权利要求1至3中任一项所述的电子材料用清洗剂组合物的所述叔胺A和所述水B。
5.一种电子材料的清洗方法，其特征在于，
所述方法包含电子材料的清洗工序，所述电子材料的清洗工序使用了权利要求1至3中任一项所述的电子材料用清洗剂组合物。
6.根据权利要求5所述的电子材料的清洗方法，其特征在于，
所述方法不包含漂洗工序。
7.根据权利要求5或6所述的电子材料的清洗方法，其特征在于，
所述方法包含电子材料的颗粒去除工序。
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