[发明专利]由量测数据的统计分层重建有效
申请号: | 201680071040.2 | 申请日: | 2016-11-15 |
公开(公告)号: | CN108369381B | 公开(公告)日: | 2021-09-21 |
发明(设计)人: | S·I·马萨瓦特;R·德克斯;H·A·J·克瑞姆 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 胡良均 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 数据 统计 分层 重建 | ||
1.一种执行统计分层重建的方法,包括:
获得器件制造过程或所述器件制造过程的产品的测量结果;
通过分别针对于所述测量结果拟合分布来获得所述分布的一个或更多个参数的一个或更多个值的多个组;
使用计算机,通过针对于所述参数的值的多个组拟合超分布,获得所述超分布的一个或更多个超参数的一个或更多个值的组。
2.如权利要求1所述的方法,其中所述测量结果具有相同的统计分布。
3.如权利要求2所述的方法,其中所述统计分布为正态分布。
4.如权利要求1至3中任一项所述的方法,其中获得所述测量结果包括:使用多个测量选配方案来测量单个目标。
5.如权利要求4所述的方法,其中所述多个测量选配方案在偏振、波长、入射角或其组合上不同。
6.如权利要求1至3中任一项所述的方法,其中获得所述测量结果包括:测量目标的名义上相同的副本。
7.如权利要求1至3中任一项所述的方法,其中获得所述测量结果包括:从衬底上的图案,使用散射仪获得衍射图像、从重叠的目标获得重叠、获得临界尺寸、获得侧壁角(SWA)、获得高度、获得消光系数、获得折射率、分散模型参数、或其组合。
8.如权利要求1至3中任一项所述的方法,其中获得所述测量结果包括:获得所述器件制造过程的工艺参数。
9.如权利要求1至3中任一项所述的方法,还包括:将所述一个或更多个超参数的所述值反馈到针对于所述测量结果的所述分布的所述拟合。
10.一种验证统计分层重建的有效性的方法,包括:
获得模拟模型的参数的值;
使用所述模拟模型来获得多个模拟的测量结果;
使用如权利要求1至7中任一项所述的方法获得超参数的值;
使用计算机,通过使用所述超参数的所述值和所述参数的所述值确定所述超参数的所述值的可信度或所述参数的所述值的可信度。
11.如权利要求10所述的方法,其中确定所述超参数的所述值的可信度或所述参数的所述值的可信度包括:使用所述超参数的所述值与所述参数的所述值之间的差的标准偏差。
12.如权利要求10的方法,还包括:通过使用所述可信度来确定所述模拟的测量结果的品质。
13.如权利要求11所述的方法,其中确定所述超参数的所述值的可信度或所述参数的所述值的可信度包括:通过使用平均的预测不确定度。
14.一种使用统计分层重建的方法,包括:
使用如权利要求1至7中任一项所述的方法从第一条件下的测量结果获得超参数的第一值或第一超分布;
使用如权利要求1至7中任一项所述的方法从第二条件下的测量结果获得所述超参数的第二值或第二超分布;
使用所述超参数的所述第一值或所述第二值或所述第一超分布或所述第二超分布来确定所述第一条件下的测量值与所述第二条件下的测量值之间的一致性。
15.如权利要求14所述的方法,其中所述测量值为基于衍射的重叠、基于衍射的聚焦、基于重建的CD、基于微分的CD、基于成像的CD或基于重建的轮廓参数。
16.一种使用统计分层重建的方法,包括:
通过如权利要求1所述的方法获得超参数的值或超分布;
获得未用于确定所述超参数的所述值的测量结果;
使用计算机,通过使用所述测量结果来更新所述超参数的所述值或所述超分布。
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