[发明专利]成膜用材料有效
| 申请号： | 201680071239.5 | 申请日： | 2016-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN108368598B | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 佐藤龙一;深川直树;重吉勇二;松仓贤人 | 申请（专利权）人： | 日本钇股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C30/00 | 分类号： | C23C30/00;C23C4/04;C01F17/00;C23C14/32;C23C24/04;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 王灵菇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用材 | ||
【权利要求书】：
1.一种成膜用材料，其是含有YO0.8F1.4所示的钇的氧氟化物及YF3且未经造粒的平均粒径为0.1μm以上且10μm以下的粉末，其中，XRD测定中的YF3(020)面的峰高I2与YO0.8F1.4的主峰峰高I1之比即I2/I1值为0.01以上且70以下。
2.根据权利要求1所述的成膜用材料，其中，氧含量为0.5质量％以上且11.0质量％以下。
3.根据权利要求1或2所述的成膜用材料，其中，XRD测定中的YOF的主峰峰高I3与所述YO0.8F1.4的主峰峰高I1之比即I3/I1值为0.5以下。
4.根据权利要求1或2所述的成膜用材料，其中，XRD测定中的Y2O3的主峰峰高I4与所述YO0.8F1.4的主峰峰高I1之比即I4/I1值为0.01以下。
5.根据权利要求1或2所述的成膜用材料，其具有浆料形态。
6.根据权利要求1或2所述的成膜用材料，其用于喷涂法。
7.根据权利要求1或2所述的成膜用材料，其用于气溶胶沉积法。
8.根据权利要求1或2所述的成膜用材料，其用于离子镀法。
9.一种使用权利要求1～8中任一项所述的成膜用材料并利用喷涂法制造膜的方法。
10.一种使用权利要求1～8中任一项所述的成膜用材料并利用气溶胶沉积法制造膜的方法。
11.一种使用权利要求1～8中任一项所述的成膜用材料并利用离子镀法制造膜的方法。
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