[发明专利]光罩架系统

说明书

本发明涉及半导体制造，特定来说涉及光罩架系统。本发明的教示可体现在光罩架单元中，所述光罩架单元包含具有四个立柱及多个纵横杆的框架以及四个旋转门架。所述框架可具有界定前侧及后侧的最长尺寸。所述四个旋转门架可安装到所述框架以围绕平行于所述四个立柱的相应旋转轴枢转。每一旋转门架可界定经定大小以固持光罩的多个光罩嵌套。

相关申请案的交叉参考

本申请案主张2015年12月7日申请的共同拥有的第62/264,098号美国临时专利申请案的优先权，所述案出于所有目的而特此以引用的方式并入本文中。

技术领域

本发明涉及半导体制造，特定来说涉及光罩架系统。

背景技术

光刻(有时称为光学光刻或UV光刻)是一种在半导体或集成电路(IC)制造中用以图案化薄膜或衬底的工艺。光刻光掩模通常是覆盖有由光吸收或反射薄膜界定的图案的透明熔硅石胚料。将各自界定图案层的一组光掩模馈送到光刻步进器或扫描仪中，且个别地选定用于曝光的光掩模。光通过光掩模且通常命中光掩模的图案中的衬底上的光致抗蚀剂层。各种化学处理可用以移除光致抗蚀剂的曝光部分(或负光致抗蚀剂中的未曝光部分)。当将光刻用于IC装置的大量生产时，光掩模的典型术语是光罩(photoreticle或reticle)。一些IC装置的制造可需要使用不同光罩曝光50次以上。

发明内容

IC制造厂可采用各需要多个光罩的多个工艺。随着厂的产品线或工艺的数目增长，存储许多光罩变成一种挑战。本发明的教示可体现在减少存储尽可能多的光罩所需的占用面积的光罩存储架。

本发明的一些实施例可包含光罩架。所述光罩架可包括具有四个立柱及多个纵横杆的框架以及四个旋转门架。所述框架可具有界定前侧及后侧的最长尺寸。所述四个旋转门架可安装到所述框架以围绕平行于所述四个立柱的相应旋转轴枢转。每一旋转门架可界定经定大小以固持光罩的多个光罩嵌套(nest)。

在一些实施例中，每一旋转门架包括四个狭槽堆叠，每一堆叠包含28个狭槽。

在一些实施例中，所述多个光罩嵌套包括448个光罩嵌套。

在一些实施例中，每一旋转门架包括矩形塔。

在一些实施例中，每一旋转门架包括矩形塔，其包含四个光罩嵌套堆叠，且其中仅当相应堆叠面向所述框架的所述前侧时可从堆叠移除光罩。

一些实施例可包含：两个静电发射器；及两个风扇过滤单元，其保护存储在所述光罩架单元中的任何光罩免受所述光罩架单元周围的空气中的颗粒影响。

一些实施例可包含：四个制动器，每一制动器与一个旋转门架相关联；及电子控制器，其在任何时间仅允许一个制动器脱离。

一些实施例可包含四个超控开关(override switch)，每一开关与一个旋转门架相关联且可操作以超控所述电子控制器并允许所述相关联的旋转门架转动。

一些实施例可包含一组视觉信号，其指示每一制动器是接合还是脱离。

一些实施例可包含：手持扫描枪，其用于读取更换于所述光罩架单元的光罩嵌套中或从所述光罩架单元的光罩嵌套移除的光罩上的标签；及监测器，其显示从所述标签读取的标识码。

一些实施例可包含一种用于将光罩存储在半导体厂中的光罩架单元的系统，所述系统包含多个光罩架单元，每一光罩架单元包括：具有四个立柱及多个纵横杆的框架，所述框架具有界定前侧及后侧的最长尺寸；及四个旋转门架，所述四个旋转门架安装到所述框架以围绕平行于所述四个立柱的相应旋转轴枢转。每一旋转门架可界定经定大小以固持光罩的多个光罩嵌套。

在一些实施例中，每一旋转门架包括四个狭槽堆叠，每一堆叠包含28个狭槽。