[发明专利]曝光装置及曝光装置的控制方法、以及元件制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其具备对靶材照射带电粒子束的照射装置，所述曝光装置的特征在于，包括：

载台，保持所述靶材；

载台驱动系统，包含驱动所述载台的电磁马达；以及

控制系统，控制所述照射装置与所述载台驱动系统，

所述控制系统基于所述带电粒子束对所述靶材的照射状态，来控制所述载台驱动系统。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制系统在所述带电粒子束对所述靶材的的照射时与未照射时，变更对所述载台驱动系统的控制内容。

3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制系统包含控制所述载台驱动系统的反馈控制系统，

对所述载台驱动系统的控制内容的变更包含：在所述带电粒子束对所述靶材的照射时与未照射时，变更所述反馈控制系统的控制增益。

4.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，

所述带电粒子束的照射时的所述反馈控制系统的控制增益被设定为比所述带电粒子束的未照射时的所述反馈控制系统的控制增益小的值。

5.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，

所述带电粒子束的照射时的所述反馈控制系统的控制增益被设定为实质上可视为零的值。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制系统为了对因在所述载台的驱动时产生的所述电磁马达的电磁场变动引起的所述带电粒子束在所述靶材上的照射位置进行调整，对所述载台驱动系统进行前馈控制。

7.根据权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制系统在通过所述前馈控制来调整所述照射位置时，将与所述载台的位置相应的控制信息提供给所述载台驱动系统。

8.根据权利要求6或7所述的曝光装置，其特征在于，

所述带电粒子束在所述靶材上的照射位置的调整是基于下述映射图信息来进行，该映射图信息表示与因在所述载台的驱动时产生的所述电磁马达的电磁场变动引起的所述带电粒子束的变动相关的信息和所述载台的位置的关系。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的曝光装置，其特征在于，

所述带电粒子束对所述靶材的照射是在所述载台的加速度为零的状态下进行。

10.根据权利要求9所述的曝光装置，其特征在于，

所述带电粒子束对所述靶材的照射是在所述载台的匀速移动中进行。

11.一种曝光装置，其一边使靶材朝规定方向移动一边利用带电粒子束进行曝光，所述曝光装置的特征在于，包括：

载台，保持所述靶材；

照射装置，对所述靶材照射带电粒子束；

载台驱动系统，包含驱动所述载台的电磁马达；以及

控制系统，在所述规定方向的所述载台的加减速时，使用所述载台驱动系统来驱动所述载台，而在所述载台的匀速移动时，使所述载台主要包含依据惯性定律的运动而移动。

12.根据权利要求11所述的曝光装置，其特征在于，

所述载台匀速移动时的所述电磁马达的输出小于所述载台加减速时的所述电磁马达的输出。

13.根据权利要求11或12所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制系统包含控制所述载台驱动系统的反馈控制系统，

所述载台匀速移动时的所述反馈控制系统的控制增益被设定为比所述载台加减速时的所述反馈控制系统的控制增益小的值。

14.根据权利要求13所述的曝光装置，其特征在于，

所述载台匀速移动时的所述反馈控制系统的控制增益被设定为实质上可视为零的值。