[发明专利]曝光装置及曝光装置的控制方法、以及元件制造方法

说明书

曝光装置(100)具备：照射装置(30)，对靶材(W)照射电子束；载台(26)，保持靶材；载台驱动系统，包含驱动载台的电磁马达；以及控制系统，基于电子束对靶材的照射状态来控制载台驱动系统。控制系统在针对靶材的电子束的照射时与未照射时，变更对载台驱动系统的控制内容。由此，能够使用电磁马达来作为载台的驱动源，且抑制载台驱动时的靶材上的电子束的照射位置偏移。

技术领域

本发明涉及一种曝光装置及曝光装置的控制方法、以及元件制造方法，尤其涉及一种利用带电粒子束来对靶材进行曝光的曝光装置及该曝光装置的控制方法、以及使用所述曝光装置的元件制造方法。

背景技术

近年来，为了形成比紫外光曝光装置的分辨率极限更微细的间距的电路图案，提出一种电子束曝光装置，其利用电子束形成比紫外光曝光装置的分辨率极限更小的点，使该电子束的点与晶片等靶材相对地扫描。

在电子束曝光装置中，可实现电子光学系统中的电子束的高速偏向，能够在光学系统侧，对保持靶材的载台的位置误差进行修正。因此，在电子束曝光装置中，对于载台的位置控制精度，并不要求光曝光装置那么高的精度。而且，在电子束曝光装置中，若对载台的驱动采用线性马达等电磁致动器，则在电磁致动器动作时会产生磁场变动，从而因该磁场变动而产生电子射线的未预期偏向或像差，导致曝光精度下降。因此，在以往的电子束曝光装置中，为了驱动靶材而使用气动载台(例如参照专利文献1、2)。

然而，在气动载台中，有时会产生难以修正的非线性的控制误差，而且，控制性比电磁马达差。另外，在使用电磁马达的情况下，也有通过磁屏蔽来遮蔽来自电磁马达的磁的方法，但难以完全遮蔽。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2002-170765号公报

专利文献2：美国专利第6,674,085号说明书

发明内容

根据第1形态，提供一种曝光装置，其具备对靶材照射带电粒子束的照射装置，其包括：载台，保持所述靶材；载台驱动系统，包含驱动所述载台的电磁马达；以及控制系统，控制所述照射装置与所述载台驱动系统，所述控制系统基于所述带电粒子束对所述靶材的照射状态，来控制所述载台驱动系统。

根据第2形态，提供一种曝光装置，其一边使靶材朝规定方向移动一边利用带电粒子束进行曝光，其包括：载台，保持所述靶材；照射装置，对所述靶材照射带电粒子束；载台驱动系统，包含驱动所述载台的电磁马达；以及控制系统，在所述规定方向的所述载台的加减速时，使用所述载台驱动系统来驱动所述载台，而在所述载台的匀速移动时，使所述载台主要包含依据惯性定律的运动而移动。

根据第3形态，提供一种元件制造方法，其包括：使用第1形态的曝光装置及第2形态的曝光装置中的任一者，利用带电粒子束对作为靶材的基板进行曝光；以及对曝光后的所述基板进行显影。

根据第4形态，提供一种控制方法，其控制曝光装置，该曝光装置具备保持靶材的载台、及对所述靶材照射带电粒子束的照射装置，该控制方法包括：对包含驱动所述载台的电磁马达的载台驱动系统和所述照射装置进行控制，在所述控制中，是基于所述带电粒子束对所述靶材的照射状态来控制所述载台驱动系统。

根据第5形态，提供一种控制方法，其控制曝光装置，该曝光装置一边使靶材朝规定方向移动，一边从照射装置照射带电粒子束进行曝光，该控制方法包括：对包含电磁马达的载台驱动系统进行控制，该电磁马达驱动保持所述靶材的载台，在所述控制中，在所述规定方向的所述载台的加减速时，使用所述载台驱动系统来驱动所述载台，而在所述载台的匀速移动时，使所述载台主要包含依据惯性定律的运动而移动。

附图说明

图1是概略地表示一实施方式的电子束曝光装置的结构的图。