[发明专利]微结构图案

权利要求书

1.一种在外表面上提供微结构图案的方法，所述方法包括以下步骤：

将可光固化材料的层施加到所述外表面，所述可光固化材料包括光引发剂；

选择性地照射所述可光固化材料以仅在照射的可光固化材料层的那些区域中激活所述光引发剂；

去除未照射的可光固化材料或照射的可光固化材料，

其中施加和照射步骤两者都不包括与所述可光固化材料层接触的掩模。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述可光固化材料是光聚合物。

3.根据权利要求2所述的方法，其中通过不接触所述层的掩模照射所述光聚合物层。

4.根据权利要求3所述的方法，其中所述掩模是基本上平坦的并且在所述外表面上并沿所述外表面平移。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述光引发剂通过强度图案激活。

6.根据权利要求5所述的方法，其中所述干涉图案由照射掩模或衍射光栅的辐射源产生。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述掩模或衍射光栅分裂所述辐射源以产生干涉图案。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述单个辐射源是相干的。

9.根据权利要求5所述的方法，其中通过衍射光栅产生所述干涉图案。

10.根据权利要求9所述的方法，其中通过用来自单个辐射源的辐射照射所述衍射光栅产生所述干涉图案。

11.根据权利要求10所述的方法，其中所述单个辐射源是相干的。

12.根据权利要求1所述的方法，其中所述外表面的顶涂层由可固化物质形成，并且所述施加步骤在所述顶涂层完全固化之前进行。

13.根据权利要求12所述的方法，其中所述顶涂层可固化物质是光聚合物。

14.根据权利要求13所述的方法，其中所述可光固化材料包含丙烯酸光聚合物或聚氨酯光聚合物。

15.根据权利要求1-14中任一项所述的方法，其中通过所述照射的可光固化材料形成所述微结构图案。

16.根据权利要求1-13中任一项所述的方法，其中所述照射的可光固化材料形成施加到所述外表面的掩模，并且穿过所述掩模蚀刻所述外表面以形成所述微结构图案。

17.一种在外表面上提供微结构图案的方法，所述方法包括以下步骤：

将可光固化材料的层施加到所述外表面；

用包括预定照射强度分布的辐射照射所述可光固化材料以引发照射的可光固化材料的固化，所述固化引起跨越所述可光固化材料的层的固化深度分布对应于选择的强度分布；和

去除未固化的可光固化材料以形成所述微结构图案。

18.根据权利要求17所述的方法，其中照射所述可光固化材料包括穿过对应于所述预定照射强度分布的光掩模照射所述可光固化材料。

19.根据权利要求17或18所述的方法，其中所述照射包括照射所述可光固化材料预定持续时间。

20.根据权利要求17至19中任一项所述的方法，其中引发固化包括将所述可光固化材料的层从邻近所述外表面的第一侧至远离所述外表面的相对的第二侧自下至上地固化。