[发明专利]锂离子二次电池用负极活性物质的制造方法在审
申请号: | 201680073785.2 | 申请日: | 2016-11-30 |
公开(公告)号: | CN108370034A | 公开(公告)日: | 2018-08-03 |
发明(设计)人: | 高野义人;木崎哲朗;岩谷敬三 | 申请(专利权)人: | 捷恩智株式会社;捷恩智石油化学株式会社 |
主分类号: | H01M4/48 | 分类号: | H01M4/48;C01B33/12;H01M4/36 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨贝贝;臧建明 |
地址: | 日本东京千代田区大手町二丁*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 锂离子二次电池 负极活性物质 硅氧化物 钛氧化物 复合物 惰性气体环境 氢倍半硅氧烷 热处理 硅化合物 红外光谱 缩合反应 聚合物 强度比 氧化钛 水解 制造 | ||
1.一种锂离子二次电池用负极活性物质的制造方法,其是含有硅-钛氧化物复合物而成的锂离子二次电池用负极活性物质的制造方法,其特征在于:
所述锂离子二次电池用负极活性物质中所含的硅-钛氧化物复合物是通过将氧化钛被覆于硅氧化物而获得,
关于所述硅氧化物,
a)是对使式(1)所表示的硅化合物进行水解及缩合反应所得的氢倍半硅氧烷聚合物(HPSQ)在惰性气体环境下进行热处理而获得,
b)含有硅(Si)、氧(O)及氢(H),
c)在利用红外光谱法所测定的光谱中,处于820cm-1~920cm-1间的来源于Si-H键的峰值1的强度(I1)与处于1000cm-1~1200cm-1间的来源于Si-O-Si键的峰值2的强度(I2)之比(I1/I2)在0.01~0.35的范围内,
d)为通式SiOxHy(1<x<1.8、0.01<y<0.4)所表示者;
HSi(R)3 (1)
(式中,R为分别相同或不同的选自卤素、氢、碳数1~10的经取代或未经取代的烷氧基、碳数6~20的经取代或未经取代的芳氧基及碳数7~30的经取代或未经取代的芳基烷氧基中的基团;其中,在碳数1~10的经取代或未经取代的烷氧基、碳数6~20的经取代或未经取代的芳氧基及碳数7~30的经取代或未经取代的芳基烷氧基中,任意的氢可经卤素取代)。
2.根据权利要求1所述的锂离子二次电池用负极活性物质的制造方法,其特征在于,所述式(1)所表示的硅化合物为三卤化硅烷或三烷氧基硅烷。
3.根据权利要求1或2所述的锂离子二次电池用负极活性物质的制造方法,其特征在于,对所述氢倍半硅氧烷聚合物(HPSQ)在惰性气体环境下进行热处理时的温度为600℃~950℃。
4.根据权利要求1或2所述的锂离子二次电池用负极活性物质的制造方法,其特征在于,对所述氢倍半硅氧烷聚合物(HPSQ)在惰性气体环境下进行热处理时的温度为650℃~900℃。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的锂离子二次电池用负极活性物质的制造方法,其特征在于,所述氧化钛对硅氧化物的被覆是在惰性气体环境下在200℃~900℃的温度范围内进行热处理而成。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的锂离子二次电池用负极活性物质的制造方法,其特征在于,所述氧化钛对硅氧化物的被覆是在惰性气体环境下在250℃~850℃的温度范围内进行热处理而成。
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