[发明专利]偏振片保护膜、其制造方法及偏振片有效
申请号: | 201680075187.9 | 申请日: | 2016-12-01 |
公开(公告)号: | CN108369310B | 公开(公告)日: | 2021-03-16 |
发明(设计)人: | 高木隆裕 | 申请(专利权)人: | 柯尼卡美能达株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;C08J5/18;G09F9/30;H01L27/32;H01L51/50;H05B33/02 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 沈雪 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 偏振 保护膜 制造 方法 | ||
本发明的课题在于,提供一种含有降冰片烯类树脂、不增加雾度而改良了滑动性的偏振片保护膜。另外,提供一种该偏振片保护膜的制造方法及具备该偏振片保护膜的偏振片。该偏振片包覆膜含有氢化降冰片烯类树脂和微粒,上述微粒的二次粒子的平均粒径为0.05~0.20μm的范围内,上述二次粒子的粒径的相对标准偏差为5~20%的范围内,并且,上述偏振片保护膜的表面的峰密度为1000~5000(个/mm2)的范围内。
技术领域
本发明涉及偏振片保护膜及其制造方法。另外,本发明涉及具有偏振片保护膜的偏振片。更详细而言,本发明涉及改良了滑动性的偏振片保护膜及其制造方法。
背景技术
近年来,液晶显示装置、有机电致发光(以下简称为“有机EL”。)显示装置、触摸面板等的用途正在扩大。在这样的设备中,对支撑体、保护膜等使用各种树脂膜。其中,由加氢(以下称为“氢化”。)降冰片烯类树脂形成的膜的耐热性高、吸水率低。因此,由氢化降冰片烯类树脂形成的膜由于尺寸稳定性、湿度变化耐性优异而优选使用。另外,氢化降冰片烯类树脂由于光弹性模量小而能将固有双折射抑制为较低水平。因此,作为在光学上需要各向同性的用途的偏振片保护膜,是光学特性也优异的原料。
另一方面,对显示装置、触摸面板的薄膜化、轻质要求也日益提高。因此,树脂膜的薄膜化、轻质化也成为了重要的研究课题。因此,对于上述具有优异的光学特性的氢化降冰片烯类树脂,对薄膜化的要求提高。
氢化降冰片烯类树脂具有如上述那样的优点,但另一方面,存在滑动性差的问题。由于膜彼此间的滑动性差,因此在制造膜时容易发生问题。特别是卷绕膜时,如果膜彼此的滑动性差,则存在卷绕时膜断裂、受损的问题。
特别是薄膜化时,上述滑动性进一步劣化。如此地,氢化降冰片烯类树脂膜的滑动性不充分,因此难以处理,应用受到了限制。
作为氢化降冰片烯类树脂膜的滑动性的改良方法,提出了在表面形成凹凸的方法、在表面涂布抗静电层等薄膜的方法、粘贴保护膜并在该膜形成凹凸的方法等。
例如,在专利文献1中公开了涂布有包覆层表面的氮原子量为0.5~10mol%的抗静电剂的膜。其是通过降低表面的带电性,从而兼顾平滑性和滑动性的膜。在专利文献2中提出了通过涂布含有具有亲水性的导电性化合物的抗静电层,从而赋予耐药性的效果的技术。在专利文献3中公开了通过以喷墨方式在膜表面形成微细凸结构,从而提高滑动性。在专利文献4中公开了通过在表面粘贴具有一定的Ra(算术平均粗糙度)、Sm(凹凸的平均间隔)的保护膜从而进行改良。
然而,在涂布专利文献1及2中记载的抗静电层的情况下,由于涂布前的膜的滑动性差,因此涂布加工的收率差,需要进行改善。
在通过专利文献3中记载的喷墨方式在膜表面形成凹凸的情况下,由微粒分散液的液滴产生的微妙的着地位置的偏差导致污染,需要进行改善。专利文献4中提出的、以保护目的贴合其它膜的技术是常规方法,但膜厚变大,而且产生作为废弃物而剥离的作为保护目的的膜,在环境方面存在问题,因此,需要进行改善。
另外,在专利文献5中公开了在环状烯烃类树脂膜中添加消光剂微粒的技术。
本发明人对该专利文献5中提出的方法反复进行研究的结果为:在氢化降冰片烯类树脂中含有消光剂的情况下,滑动性改良的效果不充分。另外,为了改良滑动性而大量添加消光剂的情况下,偏振片保护膜的雾度(浊度)变大。
因此,在氢化降冰片烯类树脂中,不增加雾度而改良滑动性实际上是困难的。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2003-39619号公报
专利文献2:日本专利第5377283号公报
专利文献3:日本专利第5182092号公报
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