[发明专利]保持基板的保持布置、支撑基板的载体、沉积系统、保持基板的方法和释放基板的方法

说明书

本公开内容提供保持布置(100)。用于保持基板的保持布置(100)包括：主体部分(110)，所述主体部分(110)具有第一侧(112)；干燥粘合剂材料(120)，所述干燥粘合剂材料(120)设于主体部分(110)的第一侧(112)上；密封件(130)，所述密封件(130)环绕干燥粘合剂(120)并且经构造以在第一侧(112)上提供真空区域，其中干燥粘合剂(120)设于真空区域中；和导管(140)，所述导管(140)用于抽空真空区域。

技术领域

本公开内容的实施方式涉及用于保持基板的保持布置、用于支撑基板的载体、真空处理系统、用于保持基板的方法和用于释放(release)基板的方法。本公开内容的实施方式特别涉及用于在真空处理腔室中的基板处理期间保持基板的保持布置、用于在真空处理腔室中支撑基板的载体、包括真空处理腔室的真空处理系统、用于在真空处理腔室中的基板处理期间保持基板的方法和用于在真空处理腔室中的基板处理之后释放基板的方法。特别地，基板处理可包括沉积工艺，例如溅射沉积工艺。

背景技术

在基板上沉积层的技术包括(例如)热蒸发(thermal evaporation)、化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)和物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)(例如溅射沉积)。溅射沉积工艺可用于在基板上沉积材料层 (例如绝缘材料层)。在溅射沉积工艺期间，用产生于等离子体区域中的离子轰击(bombard)具有待沉积于基板上的靶材的靶，以从靶的表面撞出(dislodge) 靶材的原子。撞出的原子可在基板上形成材料层。在反应溅射沉积(reactive sputter deposition)工艺中，撞出的原子可与等离子体区域中的气体(例如氮或氧)反应，以在基板上形成靶材的氧化物、氮化物或氧氮化物。

经涂覆的材料可用于若干应用和若干技术领域中。例如，经涂覆的材料可用于微电子领域中，例如用于制造半导体装置。同样地，可使用PVD工艺涂覆用于显示器的基板。进一步的应用包括绝缘面板、有机发光二极管 (OLED)面板、具有薄膜晶体管(TFT)的基板、彩色滤光片(color filter)或类似物。

朝向更大并且也更薄的基板的趋势可由于(例如在沉积工艺期间)施加于基板的应力而造成基板的凸起(bulge)。例如是由于将基板边缘往基板中心推的力，在沉积工艺期间保持基板的支撑系统引入基板上的凸起。凸起又可造成由于破裂(breakage)的可能性增大的问题。因此，需要在没有损坏或破裂的情况下减少凸起并且支撑较大并且较薄的基板。

鉴于上述，克服本领域中的至少一些问题的用于在真空处理腔室中的基板处理期间保持基板的新的保持布置、用于在真空处理腔室中支撑基板的载体、真空处理系统、用于保持基板的方法和用于释放基板的方法是有益的。

发明内容

鉴于上述，提供用于保持基板的保持布置、用于支撑基板的载体、真空处理系统、用于保持基板的方法和用于释放基板的方法。本公开内容的其他方面、优点和特征由权利要求书、说明书和附图而明显。

根据本公开内容的方面，提供用于(特别是在真空处理腔室中的基板处理期间)保持基板的保持布置。保持布置包括：主体部分，所述主体部分具有第一侧；干燥粘合剂(adhesive)材料，所述干燥粘合剂(adhesive)材料设于主体部分的第一侧上；密封件，所述密封件环绕粘合剂并且经构造以在第一侧上提供真空区域，其中干燥粘合剂材料设于真空区域中。；和导管，所述导管抽空(evacuate)真空区域。