[发明专利]低α射线量硫酸钡颗粒以及其利用和其制造方法

权利要求书

1.低α射线量硫酸钡颗粒的制造方法，其特征在于，对将重晶石原料矿石破碎而得到的平均粒径为5~50μm、α射线量为1cph/cm² 以下的破碎矿，

(a)按顺序进行淘洗处理和介质粉碎处理；或

(b)按顺序进行介质粉碎处理和筛处理；或

(c)按顺序进行淘洗处理、介质粉碎处理和筛处理；

此时，上述介质粉碎处理中，将上述破碎矿粉碎至平均粒径为1μm以下的粉矿，并且通过上述淘洗处理和/或筛处理去除粗粒，从而制成二氧化硅含量为0.6重量%以下的粉矿，由此得到平均粒径为1μm以下、二氧化硅含量为0.6重量%以下、α射线量为0.07cph/cm² 以下、源自作为杂质而存在的硫化物的硫含量为10ppm以下的低α射线量硫酸钡颗粒。

2.根据权利要求1所述的低α射线量硫酸钡颗粒的制造方法，其中，所述破碎矿具有0.65~3.5重量%的范围的二氧化硅含量。

3.根据权利要求1所述的低α射线量硫酸钡颗粒的制造方法，其中，所述破碎矿具有0.65~1重量%的范围的二氧化硅含量。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的低α射线量硫酸钡颗粒的制造方法，其中，将所述破碎矿进行酸加热处理后，进行所述(a)、(b)或(c)的处理。

5.表面处理的低α射线量硫酸钡颗粒的制造方法，其特征在于，对将重晶石原料矿石破碎而得到的平均粒径为5~50μm、α射线量为1cph/cm² 以下的破碎矿，

(a)按顺序进行淘洗处理和介质粉碎处理；或

(b)按顺序进行介质粉碎处理和筛处理；或

(c)按顺序进行淘洗处理、介质粉碎处理和筛处理；

此时，上述介质粉碎处理中，将上述破碎矿粉碎至平均粒径为1μm以下的粉矿，并且通过上述淘洗处理和/或筛处理去除粗粒，从而制成二氧化硅含量为0.6重量%以下的粉矿，由此得到平均粒径为1μm以下、二氧化硅含量为0.6重量%以下、α射线量为0.07cph/cm² 以下、源自作为杂质而存在的硫化物的硫含量为10ppm以下的低α射线量硫酸钡颗粒，

接着，对上述低α射线量硫酸钡颗粒用选自二氧化硅、二氧化硅水合物和氢氧化铝中的至少1种实施表面处理。

6.根据权利要求5所述的表面处理的低α射线量硫酸钡颗粒的制造方法，其中，将所述破碎矿进行酸加热处理后，进行所述(a)、(b)或(c)的处理。

7.根据权利要求5或6所述的表面处理的低α射线量硫酸钡颗粒的制造方法，其中，所述破碎矿具有0.65~3.5重量%的二氧化硅含量。

8.根据权利要求5或6所述的表面处理的低α射线量硫酸钡颗粒的制造方法，其中，所述破碎矿具有0.65~1重量%的二氧化硅含量。

9.低α射线量硫酸钡颗粒，其是通过权利要求1~4中任一项所述的低α射线量硫酸钡颗粒的制造方法得到的，该低α射线量硫酸钡颗粒的二氧化硅含量为0.6重量%以下、源自作为杂质而存在的硫化物的硫含量为10ppm以下、平均粒径为1μm以下、α射线量为0.07cph/cm²以下。

10.表面处理的低α射线量硫酸钡颗粒，其是对权利要求9所述的低α射线量硫酸钡颗粒用选自二氧化硅、二氧化硅水合物和氢氧化铝中的至少1种进行表面处理而得到的。

11.树脂组合物，其包含权利要求9或10中任一项所述的低α射线量硫酸钡颗粒。

12.涂料组合物，其包含权利要求9或10中任一项所述的低α射线量硫酸钡颗粒。

13.抗蚀剂墨水组合物，其包含权利要求9或10中任一项所述的低α射线量硫酸钡颗粒。