[发明专利]地加瑞克的制备方法及其中间体有效

专利信息
申请号: 201680081945.8 申请日: 2016-12-19
公开(公告)号: CN108779150B 公开(公告)日: 2022-03-29
发明(设计)人: 伊凡·古里亚诺夫;安德列·奥兰丁;巴巴拉·比昂迪;费尔南·福尔马吉奥;达里奥·维森蒂尼;安东尼奥·里奇;雅格布·扎农;沃尔特·卡布里 申请(专利权)人: 费森尤斯卡比依普莎姆责任有限公司
主分类号: C07K7/23 分类号: C07K7/23
代理公司: 北京卓孚律师事务所 11821 代理人: 任宇
地址: 意大*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 加瑞克 制备 方法 及其 中间体
【权利要求书】:

1.用于制备十肽或其可药用盐的方法,其中所述十肽的特征在于是在所述十肽的序列中,至少在第5位具有一个Aph衍生物并在第6位具有一个Aph衍生物的肽,其中所述Aph衍生物选自Aph(Hor)和Aph(Cbm),

其中,所述方法包括使用对硝基苯丙氨酸或下式X的化合物或硝基肽,再将掺入到所述肽序列中的硝基苯丙氨酸残基分别修饰成Aph衍生物Aph(Hor)或Aph(Cbm),

其中Pg是末端保护基团;

其中所述十肽是下式I的地加瑞克或其可药用盐:

其中所述硝基肽是包含一个或两个对硝基苯丙氨酸残基的肽,并且是下式II、V或VII的化合物,

其中Pg是末端保护基团,X是侧链保护基团,并且Y是侧链保护基团或H,并且Resin是H或固相支持物;

其中X和Z是侧链保护基团,并且Y是侧链保护基团或H,Resin是固相支持物;或

其中Pg是末端保护基团;X是侧链保护基团,并且Resin是固相支持物。

2.根据权利要求1所述的方法,其中所述方法包括将下式II的化合物转变成地加瑞克或其可药用盐:

其中Pg是末端保护基团,X是侧链保护基团,并且Y是侧链保护基团或H,并且Resin是H或固相支持物。

3.根据权利要求1或2的方法,其中所述方法以固相肽合成进行。

4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于包括下述步骤:

a)用还原剂处理式II的化合物以形成下式III的化合物:

其中Pg是末端保护基团,X是侧链保护基团,并且Y是侧链保护基团或H,并且Resin是固相支持物;

b)将所述式III的化合物与活化的二氢乳清酸反应,以形成下式IV的化合物:

其中Pg是末端保护基团,X是侧链保护基团,并且Y是侧链保护基团或H,并且Resin是固相支持物;

c)重复下述附连到Resin的步骤(i)-(ii),直至形成受保护的十肽:

(i)将受保护的肽去保护以去除所述末端保护基团,

(ii)使用偶联试剂将受保护的氨基酸按照所需序列偶联到附连到所述Resin的肽的末端氨基残基,以形成一个接一个氨基酸延长的受保护的肽,

d)将所述受保护的十肽去保护以去除所述末端保护基团,

e)在乙酰化试剂存在下将所得十肽的N-末端乙酰化,以及

f)将乙酰化的十肽从所述Resin切下,以形成地加瑞克或其可药用盐;

由此将式II的化合物转变成地加瑞克或其可药用盐。

5.根据权利要求2所述的方法,其包括下述步骤:

a)提供式II的化合物,

b)重复下述步骤(i)-(ii),直至形成附连到Resin的受保护的十肽:

(i)将附连到Resin的受保护的肽去保护以去除所述末端保护基团,

(ii)使用偶联试剂将受保护的氨基酸按照所需序列偶联到附连到所述Resin的末端氨基残基,以形成附连到所述Resin的受保护的肽;

c)将所述受保护的十肽去保护以去除末端保护基团,

d)在乙酰化试剂存在下将所得十肽的N-末端乙酰化,以产生下式V的化合物:

其中X和Z是侧链保护基团,并且Y是侧链保护基团或H,Resin是固相支持物;

e)用还原剂处理所述式V的化合物,以形成下式VI的化合物:

其中X和Z是侧链保护基团,并且Y是侧链保护基团或H,Resin是固相支持物,

f)将所述式VI的化合物与活化的二氢乳清酸反应,以形成附连到所述Resin的受保护的十肽;以及

g)将所述十肽从所述Resin切下,以形成地加瑞克或其可药用盐。

6.下式II的化合物:

其中Pg是末端保护基团或H,X和Y是侧链保护基团或H,并且Resin是固相支持物,并且其中当所述化合物未附连到固相支持物时,所述Resin是H。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于费森尤斯卡比依普莎姆责任有限公司,未经费森尤斯卡比依普莎姆责任有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680081945.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top