[发明专利]蒸镀掩模的制造方法及制造装置有效

专利信息
申请号: 201680083951.7 申请日: 2016-07-28
公开(公告)号: CN109315043B 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 崎尾进 申请(专利权)人: 鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: H05B33/10 分类号: H05B33/10;C23C14/24;H01L51/50
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 汪飞亚;薛晓伟
地址: 中国台湾*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 蒸镀掩模 制造 方法 装置
【说明书】:

本发明提供一种能够以与使用时相同的朝向或放置方向来制造具备有树脂框架层及金属薄膜层的混合型蒸镀掩模的蒸镀掩模的制造方法及制造装置。在规定的方向施加规定的张力的状态下,以使树脂薄膜层成为外侧的方式,将在形成有一个或多个开口的金属薄膜层的一侧的表面上配置的树脂薄膜层的蒸镀掩模材料熔接于金属框架,以基台来保持该金属框架,并以使与金属薄膜层成为相对向的方式将反射面等的锥形形成构件/材料配置于金属框架的内侧,从树脂薄膜层的上方照射激光以在树脂薄膜层形成贯通孔,并且使通过贯通孔的激光被锥形形成构件/材料反射,由此在贯通孔的周围形成锥形。

技术领域

本发明是关于一种可在制造例如有机发光二极管(OLED:Organic LightEmitting Diode)上使用的蒸镀掩模的制造方法及制造装置。

背景技术

有机发光二极管中,所谓的被称为底部发光(bottom emission)型的结构是通过在玻璃板、透明的塑料板等的透明基板上,层叠透明电极(阳极)、空穴注入层、空穴输送层、发光层、电子输送层、电子注入层、金属电极(阴极)等所构成。此外,顶部发光(topemission)型则是通过在玻璃板以外的其他的形成茶褐色的聚酰亚胺薄膜等的不一定要透明的基板上层叠反射电极(阳极)、空穴注入层、空穴输送层、发光层、电子输送层、电子注入层、半透明的极薄的金属电极(阴极)等所构成。如图9所示,根据工业上用于制造有机发光二极管的蒸镀,一般的底部发光型的有机发光二极管的制造装置130包括:在真空室(chamber)内,用来保持在被蒸镀面形成有透明电极的透明基板131以使得该被蒸镀面朝下的基板保持器132;在真空室的下部,以与基板保持器所保持的透明基板的被蒸镀面呈相对向的方式所设置的多个点状、或线状的蒸镀源133;以及用于使基板保持器132或蒸镀源133在规定方向以一定速度旋转或平行移动的驱动机构(未图标)等。在多个蒸镀源133中收纳有分别用于形成上述的空穴注入层、空穴输送层、发光层、电子输送层、电子注入层、金属电极等的蒸镀物质。

在真空室的内部备有:为蒸镀上述的各层材料而符合各层图案的蒸镀掩模110,并在形成各层时交换符合各个该层的蒸镀掩模。此外,在不使用滤色器的全色彩(fullcolor)有机发光二极管的情况下,为了蒸镀与R(红)、G(绿)、B(蓝)的各色相对应的发光层,则准备具有符合各色的图案的开口的蒸镀掩模,且在形成各色的发光层时交换符合该色的蒸镀掩模。蒸镀掩模需要以与被基板保持器所保持的透明基板的被蒸镀面紧密接触的方式来进行安装,特别是一般的现有的蒸镀掩模是形成有规定图案的开口的金属掩模,因而可通过在基板保持器的里侧,即在与被基板保持器保持的透明基板相反的侧上所设置的磁铁的磁力来吸引保持,以使与透明基板的被蒸镀面紧密接触。

随着诸如此类的有机发光二极管的高解像度与高精细化,在有机发光二极管的制造上所使用的蒸镀掩模是由对于金属薄板进行2阶段蚀刻处理所制造而成的,因而正逐渐地往具备有以聚酰亚胺等的热固化性树脂形成的树脂薄膜、以及用于支持该树脂薄膜层的金属薄膜层的混合型蒸镀掩模移动。例如,如图10所示,根据专利文献1所记载的现有的蒸镀掩模110的制造方法,在一面上形成有树脂薄膜层112的金属薄膜层111的非树脂薄膜层侧涂布抗蚀膜113,在抗蚀膜113上设置掩模114,并照射紫外线115以形成规定的抗蚀图案116。然后,实施蚀刻处理并在金属薄膜层111形成狭缝117,经由该狭缝117,进一步地将激光119照射在树脂薄膜层112上,进而形成与有机发光二极管的薄膜图案相对应的多个贯通孔118。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于鸿海精密工业股份有限公司,未经鸿海精密工业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680083951.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top