[发明专利]装备有可移动遮板的用于涂覆的基材支架及其使用方法

权利要求书

1.一种在基材涂覆过程中掩蔽基材的方法，所述方法包括

将一个或多个遮板移动至关闭位置以完全或部分地遮蔽一个或多个基材免受蒸发源的影响，其中，所述一个或多个基材是设置在基材支架中的多个基材的第一部分；以及

将一个或多个功能层施加到所述多个基材的外露表面上，其中，外露表面是所述多个基材的未被所述一个或多个遮板遮蔽的第二部分的表面，

其中，在所述涂覆过程结束时，所述多个基材的所述第一部分具有与所述第二部分不同的功能层型线。

2.如权利要求1所述的方法，进一步包括：将所述一个或多个遮板移动至缩回位置，以将所述一个或多个基材的表面暴露于蒸发源下；以及将一个或多个功能层施加到所述多个基材的外露表面上。

3.如权利要求1或2所述的方法，进一步包括在将所述一个或多个功能层施加到所述外露表面上的同时旋转所述基材支架。

4.如权利要求1至3中任一项所述的方法，其中，移动所述一个或多个遮板包括手动移动所述一个或多个遮板，或者其中，移动所述一个或多个遮板包括远程致动所述一个或多个遮板。

5.如权利要求1至4中任一项所述的方法，其中，所述一个或多个遮板移动至关闭位置，而其他遮板不移动。

6.如权利要求1至5中任一项所述的方法，输入至少两种基材涂覆方案，与基材的所述第一部分相关联的第一方案和与所述基材的所述第二部分相关联的第二方案，其中，每种方案均包括基材的每个部分的位置数据和基材的每个部分的涂覆指令。

7.如权利要求1至6中任一项所述的方法，其中：

(a)所述基材是光学镜片、薄膜装置、膜或眼科镜片；

(b)所述蒸发源设置在蒸发器中，所述蒸发器被配置成用于电子束蒸发、离子辅助蒸发、离子束溅射、化学气相沉积、物理气相沉积、原子气相沉积、以及电阻蒸发中的至少一种；或

(c)所述基材支架联接至旋转驱动器，所述旋转驱动器被配置成使所述基材支架旋转。

8.如权利要求1至7中任一项所述的方法，进一步包括从所述基材支架移除所述遮板中的至少一个以及用新的遮板替换所述移除的遮板。

9.一种用于将一个或多个功能层气相沉积到一个或多个基材上的系统，所述系统包括：

基材支架；

一个或多个蒸发器，所述蒸发器与所述基材支架间隔开，所述基材支架包括支架，每个支架被配置成用于支持一个或多个基材；以及

一个或多个遮板，所述遮板联接到所述基材支架上并且被配置成在缩回位置与关闭位置之间移动，使得处于所述关闭位置时，所述一个或多个遮板遮蔽一个或多个基材的至少一部分免受所述一个或多个蒸发器的影响，而处于所述缩回位置时，所述一个或多个基材暴露于所述一个或多个蒸发器下；

系统控制器，所述系统控制器包括：

微处理器和存储器，其中，所述系统控制器与所述一个或多个蒸发器和所述一个或多个遮板通信并且被配置成执行包括以下的过程：

接收至少两个基材涂覆方案，每个方案与不同组的支架相关联并且包括每个不同组的支架的位置数据。

10.如权利要求9所述的系统，其中，所述系统控制器被进一步配置成执行包括以下中的至少一个的过程：

根据所述涂覆方案中的至少一个或两个，致动所述一个或多个蒸发器中的至少一个以及

根据所述方案中的至少一个，致动所述一个或多个遮板中的至少一个以使所述遮板移动至所述缩回位置或所述关闭位置。