[发明专利]装备有可移动遮板的用于涂覆的基材支架及其使用方法

说明书

描述了通过使用可移动遮板(9)给基材(8)选择性地涂覆一个或多个功能层(图2)的气相沉积设备(1)、系统和方法。本披露的实施例可对于涂覆眼镜镜片是有用的。还披露了其他实施例。

相关申请的交叉引用

无。

技术领域

本发明总体上涉及与基材的气相沉积有关的装置、系统和方法。

背景技术

可以将多种类型的功能涂层施加到光学基材，如眼镜镜片上。例如，对于一对眼镜镜片并不罕见的是具有三至四个不同的涂层，如减反射涂层(减少来自镜片的光反射的薄的多层涂层)、耐划伤涂层、抗静电涂层和疏水性涂层。

在制造眼镜镜片时，单一机器可以将多于一个的不同涂层施加到一批镜片上。然而，所述批次中的所有镜片可能不需要相同顺序和/或相同类型的涂层。例如，这些涂层中的一些或全部可能是来自接收镜片的客户的定制订单。特别地，减反射涂层、耐划伤涂层、和/或防雾涂层可以是施加到镜片上的标准涂层。将不同的类型和/或顺序施加到待涂覆的批次内的镜片子集上可能是有用的。

发明内容

本披露涉及有助于在单批次基材中的不同基材上施加不同功能层的装置、系统和方法。

实施例包括在基材涂覆过程中掩蔽基材的方法，使得在所述涂覆过程完成时，所述多个基材的第一部分具有与所述基材的第二部分不同的功能层型线。此类方法可以包括：将一个或多个遮板移动至关闭位置以以完全或部分地遮蔽一个或多个基材免受蒸发源的影响，其中，所述一个或多个基材是设置在基材支架中的多个基材的第一部分；以及将一个或多个功能层施加到所述多个基材的外露表面上，其中，外露表面是所述多个基材的未被所述一个或多个遮板遮蔽的第二部分的表面。

其他实施例包括在基材涂覆过程中选择性地掩蔽基材的方法。此类方法可以包括将一个或多个功能层仅施加到设置在基材支架中的多个基材的一部分上，而无需重新定位多个基材中的任何一个。功能层可以包括疏水性层、减反射层、高反射率层、高折射率层、低折射率层、抗静电层、防雾层、衬垫控制层、梯度层、和/或光操控层。

其他实施例包括将梯度涂层施加到基材上的方法。此类方法可以包括使根据本披露的遮板从缩回位置移动至关闭位置，或反之亦然，同时将材料气相沉积在基材上，从而在沉积在基材上的材料的厚度上形成梯度。

还有其他实施例包括用于将一个或多个功能层气相沉积到一个或多个基材上的设备。这种设备可以包括：基材支架；一个或多个蒸发器，所述蒸发器与所述基材支架间隔开，所述基材支架包括支架，每个支架被配置成用于支持一个或多个基材；以及一个或多个遮板，所述遮板联接到所述基材支架上并且被配置成在缩回位置与关闭位置之间移动，使得处于所述关闭位置时，所述一个或多个遮板遮蔽一个或多个基材的至少一部分免受所述一个或多个蒸发器的影响，而处于所述缩回位置时，所述一个或多个基材暴露于所述一个或多个蒸发器下。

还有其他实施例包括用于将一个或多个功能层气相沉积到一个或多个基材上的系统。此类系统可以包括如在前一段中描述的蒸发器设备以及系统控制器，所述系统控制器包括：微处理器和存储器，其中，所述系统控制器与所述一个或多个蒸发器和所述一个或多个遮板通信并且被配置成执行包括以下的过程：接收至少两个基材涂覆方案，每个方案与不同组的支架相关联并且包括每个不同组的支架的位置数据。所述过程可以进一步包括根据两种基材涂覆方案移动遮板。通过这种系统，当系统完成涂覆过程时，所述多个基材的第一部分可以具有与所述基材的第二部分不同的功能层型线。

其他实施例包括验证用于真空室中的自动遮板装置、遮板和/或辅助部件(例如，控制和自动化部件)的方法。所述方法包括以下步骤：将遮板装置、遮板、和/或辅助部件放置到真空室中；以及将压力降低至镜片涂覆机的操作压力。

术语“一个/种(a)”和“一个/种(an)”被定义为一个/种或多个/种，除非本披露另外明确地要求。