[发明专利]喷嘴式电子射线照射装置和电子射线杀菌设备有效
申请号: | 201680084688.3 | 申请日: | 2016-12-26 |
公开(公告)号: | CN109074888B | 公开(公告)日: | 2022-05-10 |
发明(设计)人: | 野田武史;坂井一郎;大工博之 | 申请(专利权)人: | 日立造船株式会社 |
主分类号: | G21K5/04 | 分类号: | G21K5/04;A61L2/08;B65B55/04;B65B55/08;G21K5/10 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 鹿屹;李雪春 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 喷嘴式 电子 射线 照射 装置 杀菌 设备 | ||
本发明提供喷嘴式电子射线照射装置和电子射线杀菌设备。喷嘴式电子射线照射装置(1)包括:真空室(2);电子射线发生器(3),配置在该真空室(2)的内部;以及真空喷嘴(4),与真空室(2)连接,引导来自电子射线发生器(3)的电子射线(E)并向外部照射。该喷嘴式电子射线照射装置(1)包括高真空泵(5),该高真空泵(5)能够从真空室(2)中的与真空喷嘴(4)连接的部分的附近进行吸引。
技术领域
本发明涉及喷嘴式电子射线照射装置和具备该喷嘴式电子射线照射装置的电子射线杀菌设备。
背景技术
由于电子射线杀菌设备所具备的喷嘴式电子射线照射装置从其真空喷嘴照射电子射线,所以将真空喷嘴从作为杀菌对象物的容器等的口部插入,能够从真空喷嘴的顶端向容器的内表面照射电子射线。即,在这种电子射线杀菌设备中,利用喷嘴式电子射线照射装置对容器的内表面直接照射电子射线来进行杀菌,所以照射的电子射线的强度较小即可。因此,与通过从该容器的外部对容器的内表面照射强力的电子射线来进行杀菌的设备相比,所述电子射线杀菌设备不仅抑制了耗电,还抑制了因照射强力的电子射线而导致的容器变质。
在喷嘴式电子射线照射装置这样的照射电子射线的装置中,为了对来自电子射线发生源的电子射线进行加速,需要利用高真空泵等使真空室的内部成为高真空气氛。在此,电子射线发生源因用于产生电子射线的热量也产生气体,因此优选高真空泵配置在电子射线发生源的附近。以往,提出了一种如此配置高真空泵(具体为离子泵)的方案(例如参照专利文献1)。
专利文献1:日本专利公报第2854466号
然而,将专利文献1记载的离子泵的配置方式应用于喷嘴式电子射线照射装置时,如图13所示,来自电子射线发生源3的气体a立即被离子泵50排出。但是,对喷嘴式电子射线照射装置的电子射线E进行引导的真空喷嘴4细长,并且电子射线E的前进方向因地磁等干扰的影响而容易发生变化,因此电子射线E有时与真空喷嘴4的内表面接触。在这种情况下,从真空喷嘴4的内表面产生气体b,但是由于离子泵50远离作为该气体b的发生源的真空喷嘴4,所以在真空室2中的与真空喷嘴4连接的部分的附近,真空度变差。另一方面,在真空室2中的与离子泵50连接的部分的附近当然真空度良好。因此,在所述喷嘴式电子射线照射装置中,真空室2内部的真空度的分布不均匀,其结果存在难以照射适当的电子射线的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供通过使真空室内部的真空度的分布大体均匀而能够照射适当的电子射线的喷嘴式电子射线照射装置和具备该喷嘴式电子射线照射装置的电子射线杀菌设备。
为了解决所述课题,第一发明的喷嘴式电子射线照射装置包括:真空室;电子射线发生器,配置在所述真空室的内部;以及真空喷嘴,与所述真空室连接,引导来自所述电子射线发生器的电子射线并向外部照射,所述喷嘴式电子射线照射装置还包括高真空泵,所述高真空泵连接于所述真空室中的与真空喷嘴连接的部分的附近,能够从所述真空室中的与真空喷嘴连接的部分的附近进行吸引。
此外,第二发明的喷嘴式电子射线照射装置在第一发明的喷嘴式电子射线照射装置的基础上,高真空泵是离子泵,所述喷嘴式电子射线照射装置还包括磁场无效化装置,所述磁场无效化装置使来自所述离子泵的磁场成为不影响来自电子射线发生器的电子射线的程度。
此外,第三发明的喷嘴式电子射线照射装置在第二发明的喷嘴式电子射线照射装置的基础上,磁场无效化装置是覆盖离子泵的磁屏蔽件。
此外,第四发明的喷嘴式电子射线照射装置在第二发明的喷嘴式电子射线照射装置的基础上,磁场无效化装置是退避用配管,所述退避用配管连接离子泵和真空室,并且使所述离子泵位于退避位置。
此外,第五发明的电子射线杀菌设备包括:转台,在外周部配置有第一至第四发明中的任意一项发明的喷嘴式电子射线照射装置;以及法兰,将喷嘴式电子射线照射装置固定于所述转台,所述法兰连接所述喷嘴式电子射线照射装置的真空室、真空喷嘴和高真空泵。
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