[发明专利]打印基底上的底涂含量的评估在审

专利信息
申请号: 201680085178.8 申请日: 2016-07-19
公开(公告)号: CN109716106A 公开(公告)日: 2019-05-03
发明(设计)人: E·戈朗;M·什利莫维赫 申请(专利权)人: 惠普印迪格公司
主分类号: G01N21/552 分类号: G01N21/552;G01N21/84
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 陈松涛;夏青
地址: 荷兰阿姆*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 底涂 基底 打印 评估 傅里叶变换 衰减全反射 成分涂层 光谱分析 光谱法
【权利要求书】:

1.一种用于评估打印基底上的底涂成分涂层重量的方法,所述方法包括:

提供带有底涂的打印基底,所述带有底涂的打印基底包括在其上设置了包括有机底涂成分的底涂层的有机打印基底材料;

使用借助于衰减全反射(ATR)的傅里叶变换红外(FTIR)光谱法对所述带有底涂的打印基底进行光谱分析,以生成设置在所述打印基底上的所述底涂层的FTIR光谱;

识别所述FTIR光谱中的作为所述有机底涂成分的特征的底涂峰;

识别所述FTIR光谱中的作为所述有机打印基底材料的特征的打印基底峰;以及

将所述底涂峰和所述打印基底峰进行比较,以评估所述带有底涂的打印基底的打印基底上的所述底涂成分涂层重量。

2.根据权利要求1所述的方法,包括计算所述底涂峰的参数以及计算所述打印基底峰的相同参数,并且其中,比较所述底涂峰和所述打印基底峰包括计算所述底涂峰参数与所述打印基底峰参数的峰参数比。

3.根据权利要求2所述的方法,其中,比较所述底涂峰和所述打印基底峰还包括将所计算的峰参数比与校准标准进行比较,以确定所述带有底涂的打印基底的所述打印基底上的所述底涂成分涂层重量,所述校准标准是通过由针对多个带有底涂的打印基底样本中的每者获得的FTIR光谱来计算峰参数比而制定的,其中所述多个带有底涂的打印基底样本中的每一样本包括设置在所述打印基底材料上的具有已知的底涂成分涂层重量的底涂层。

4.根据权利要求3所述的方法,其中,所述底涂峰的所述参数和所述打印基底峰的所述参数是所述底涂峰的面积和所述打印基底峰的面积。

5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述有机底涂成分包括具有处于2000-1350cm-1或者3000-2400cm-1的范围内的底涂吸收峰的基团,而所述打印基底材料包括具有处于2000-1350cm-1或者3000-2400cm-1当中的另一者范围内的打印基底吸收峰的基团。

6.根据权利要求1所述的方法,其中,所述底涂成分包括具有处于大约2900-2500cm-1的范围内的底涂吸收峰的亚甲基基团。

7.根据权利要求6所述的方法,其中,所述底涂成分包括聚乙烯亚胺树脂。

8.根据权利要求1所述的方法,其中,所述打印基底包括合成聚合材料,所述聚合材料的聚合物包括具有处于大约1690-1760cm-1的范围内的打印基底吸收峰的羰基基团。

9.根据权利要求8所述的方法,其中,所述聚合物是聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)。

10.根据权利要求1所述的方法,还包括确定所述带有底涂的打印基底上的底涂成分覆盖度。

11.一种打印系统,包括:

打印机单元,所述打印机单元用于在带有底涂的打印基底上打印图像,以形成设置在所述带有底涂的打印基底的底涂层上的图像;以及

FTIR-ATR模块,所述FTIR-ATR模块用于在所述带有底涂的打印基底上打印图像之前提供设置在所述打印基底上的所述底涂层的FTIR光谱。

12.根据权利要求11所述的打印系统,还包括用于向打印基底上施加底涂成分以生成带有底涂的打印基底的底涂单元。

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