[发明专利]打印基底上的底涂含量的评估在审
申请号: | 201680085178.8 | 申请日: | 2016-07-19 |
公开(公告)号: | CN109716106A | 公开(公告)日: | 2019-05-03 |
发明(设计)人: | E·戈朗;M·什利莫维赫 | 申请(专利权)人: | 惠普印迪格公司 |
主分类号: | G01N21/552 | 分类号: | G01N21/552;G01N21/84 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 陈松涛;夏青 |
地址: | 荷兰阿姆*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 底涂 基底 打印 评估 傅里叶变换 衰减全反射 成分涂层 光谱分析 光谱法 | ||
文中描述了一种用于评估打印基底上的底涂成分涂层重量的方法。所述方法包括提供带有底涂的打印基底,以及使用借助于衰减全反射(ATR)的傅里叶变换红外(FTIR)光谱法对所述带有底涂的打印基底进行光谱分析,以生成FTIR光谱。之后,识别并比较底涂成分的FTIR光谱特征当中的底涂峰以及打印基底的打印基底峰特征,以评估带有底涂的打印基底的打印基底上的底涂涂层重量。
背景技术
打印基底是诸如纸质基底或者聚合物基底等的材料,可以使用各种打印技术在上面打印图像,例如,所述技术可以是凹版打印、平版打印、喷墨打印和静电打印(包括液体静电打印)。在打印基底上面打印图像之前,可能希望在打印基底上面提供底涂层,从而例如使打印基底准备好接收图像。可能希望确定打印基底上的底涂的涂层重量,从而例如确保适当地制备打印基底,以接收图像,同时还使所使用的底涂的量最低。可以将底涂淀积到打印基底上,以提高图像与打印基底的粘附性。还可能希望控制打印基底上的底涂的涂层重量。以前的一些确定打印基底上的底涂的涂层重量的方法采用了重量分析。通过重量分析获得的结果可能因操作员的技术而发生变化。
附图说明
现在将参考附图描述非限制性示例,其中:
图1a是用于评估打印基底上的底涂成分涂层重量的方法的示例的流程图;
图1b是用于评估打印基底上的底涂成分涂层重量的方法的另一示例的流程图;
图1c是用于评估打印基底上的底涂成分涂层重量的方法的另一示例的流程图;
图2是一种打印系统的示例的示意性图示;
图3是一种打印系统的另一示例的示意性图示;
图4是处理器和存储器的示例的简化示意图;
图5是处理器和存储器的另一示例的简化示意图;
图6是处理器和存储器的另一示例的简化示意图;
图7示出了与没有底涂层的PET打印基底的FTIR光谱重叠的带有底涂的打印基底的FTIR光谱的示例;
图8示出了带有底涂的打印基底的FTIR光谱的示例,其包括所述谱的示出了CH2和OH峰的区段的放大图;
图9示出了通过对照已知底涂涂层重量绘制由带有底涂的打印基底的FTIR光谱获得的底涂成分的2850cm-1处的亚甲基(CH2)峰与打印基底的1720cm-1处的羰基(C=O)峰的峰面积比而获得的曲线图的示例;以及
图10示出了通过对照已知底涂涂层重量绘制由带有底涂的打印基底的FTIR光谱获得的底涂成分的大约3300cm-1处的OH峰与打印基底的1720cm-1处的羰基(C=O)峰的峰面积比而获得的曲线图的示例。
具体实施方式
在公开和描述本公开的方法和有关方面之前,应当理解本公开不局限于文中描述的具体过程和设备特征,因为这样的过程和设备特征可以发生某种程度的变化。还应当理解,文中采用的术语是出于描述具体示例的目的。所述术语并非意在构成限制,因为范围旨在由所附权利要求及其等同物来限定。
应当注意,如本说明书和所附权利要求中使用的,“包括”一词不排除除权利要求中所列那些之外的要素的存在,单数冠词不排除复数,单个处理器或其他单元可以实现权利要求中引述的几个单元的功能。
如文中使用的,“大约”一词用于为数值范围端点提供灵活性,其方式是规定既定值可以略微超过或者略微低于该端点,从而允许测试方法或设备当中存在变化。
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