[发明专利]遮板及其使用方法

说明书

描述了具有可折叠遮板的气相沉积设备、系统、以及方法。本披露的实施例可以用于遮盖真空室内的蒸发源、而在不使用时占用空间较小。还披露了其他实施例。

相关申请的交叉引用

空。

技术领域

本发明总体上涉及与基材的真空沉积有关的装置、系统和方法。

背景技术

可以将多种类型的功能涂层施加到光学基材，如眼镜镜片上。例如，对于一副眼镜镜片并不罕见的是具有三至四个不同的涂层，如减反射涂层(减少镜片的光反射的薄的多层涂层)、耐划伤涂层、抗静电涂层和疏水性涂层。

在制造眼镜镜片时，真空沉积机器可以将不同涂层施加到一批镜片上。在真空沉积机器内，蒸发源可以布置在真空室中的镜片支架下方、地板上方。遮板可以选择性地插入在蒸发源与镜片支架之间，以阻挡蒸发源的发射，以便改善沉积控制。有需要时，遮板应遮蔽蒸发源，但不在其他时间干扰沉积过程。

发明内容

本披露涉及有助于遮蔽气相沉积机器中的蒸发源或靶的装置、系统、以及方法，其中遮板是可折叠的。例如，遮板在不使用时占用空间较小，在需要遮蔽蒸发源时占用空间较大。

实施例包括用于在基材上进行气相沉积的设备，所述设备包括布置在真空室中、或限定其一部分的底板；基材支架，所述基材支架布置在所述真空室中底板上方并且被配置为接纳至少一个基材；在所述真空室中布置在所述基材支架下方、所述底板上方的蒸发源；以及源遮板。所述源遮板包括至少两个叶片，所述至少两个叶片被配置为在第一位置与第二位置之间移动；从而使得在所述第一位置，所述至少两个叶片沿某一维度重叠，并且所述遮板不遮盖所述蒸发源；并且在所述第二位置，所述至少两个叶片重叠的程度小于在所述第一位置，并且所述遮板遮盖所述蒸发源。其他实施例可以包括使用所述设备涂覆诸如镜片等基材。

其他实施例可以包括一种真空沉积方法，所述方法包括以下步骤：将源遮板从布置在真空沉积室中的蒸发源移开，其中，所述源遮板包括第一叶片和第二叶片；并且从所述蒸发源蒸发成膜材料，其中，将所述源遮板从所述蒸发源移开包括使所述第一叶片旋转，从而引起所述第二叶片旋转。所述方法可以进一步包括将所述源遮板移向所述蒸发源，其中，将所述源遮板移向所述蒸发源包括使所述第一叶片旋转，从而引起所述第二叶片旋转。通过推动或拉动第二叶片，第一叶片可以使第二叶片旋转。

还有其他实施例可以包括一种真空沉积方法，所述方法包括以下步骤：将源遮板移向布置在真空沉积室中的蒸发源，其中，所述源遮板包括多个叶片；并且从蒸发源蒸发成膜材料，其中，将所述源遮板移向所述蒸发源包括移动所述多个叶片，从而使得所述多个叶片成扇形。所述沉积方法进一步包括将所述源遮板从所述蒸发源移开，其中，将所述源遮板从所述蒸发源移开包括移动所述多个叶片，从而使得所述多个叶片叠起来。

术语“一个(a和an)”被定义为一个或多个，除非本披露另外明确地要求。

术语“基本上”、“大约”和“约”被定义为如本领域普通技术人员所理解的主要地但不一定完全地是指定的内容(并且包括是完全指定的内容)。在任何披露的实施例中，术语“基本上”、“大约”或“约”可以用在所指定的内容“的[百分比]内”取代，其中百分比包括0.1％、1％、5％和10％。