[发明专利]手机壳高光处理后二次氧化工艺在审
| 申请号： | 201710009615.4 | 申请日： | 2017-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN106894070A | 公开（公告）日： | 2017-06-27 |
| 发明（设计）人： | 张秀芳;纪建彪 | 申请（专利权）人： | 东台立讯精密电子技术有限公司 |
| 主分类号： | C25D11/12 | 分类号： | C25D11/12;C23F3/03;C23G1/12;C23G1/22 |
| 代理公司： | 南京苏科专利代理有限责任公司32102 | 代理人： | 陈忠辉 |
| 地址： | 224224 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 机壳 处理 二次 氧化 工艺 | ||
1.手机壳高光处理后二次氧化工艺，其特征在于包括以下步骤：（1）将手机壳进行脱脂除油处理；（2）将经步骤（1）处理后的手机壳进行化抛处理；（3）将经步骤（2）处理后的手机壳进行中和处理；（4）将经步骤（3）处理后的手机壳进行碱洗处理；（5）将经步骤（4）处理后的手机壳进行中和处理；（6）将经步骤（5）处理后的手机壳进行化抛处理；（7）将经步骤（6）处理后的手机壳进行中和处理；（8）将经步骤（7）处理后的手机壳进行氧化处理，所述氧化处理中阳极氧化温度为18～20℃，阳极氧化电压为13.5～14.5V。
2.根据权利要求1所述的手机壳高光处理后二次氧化工艺，其特征在于：所述步骤（1）中脱脂剂浓度为60～80g/L，氧化槽内选用硫酸作为氧化剂。
3.根据权利要求1所述的手机壳高光处理后二次氧化工艺，其特征在于：所述步骤（2）和步骤（6）中化抛剂比例为，磷酸:硫酸＝(4～6) :1。
4.根据权利要求1所述的手机壳高光处理后二次氧化工艺，其特征在于：所述步骤（4）中碱洗剂浓度为60～80g/L。
5.根据权利要求1所述的手机壳高光处理后二次氧化工艺，其特征在于：所述步骤（3）、步骤（5）和步骤（7）中中和剂浓度为90～130g/L。
6.根据权利要求1所述的手机壳高光处理后二次氧化工艺，其特征在于：所述步骤（8）中氧化剂浓度为190～210g/L,氧化时间为30～50min。
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