[发明专利]一种电镀屏蔽工艺在审
| 申请号： | 201710010106.3 | 申请日： | 2017-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN106637321A | 公开（公告）日： | 2017-05-10 |
| 发明（设计）人： | 罗伟强;宋社永 | 申请（专利权）人： | 深圳市常兴技术股份有限公司 |
| 主分类号： | C25D5/02 | 分类号： | C25D5/02;C25D5/00 |
| 代理公司： | 深圳市精英专利事务所44242 | 代理人： | 任哲夫 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区西乡街道银田工*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 电镀 屏蔽 工艺 | ||
1.一种电镀屏蔽工艺，包括电镀前的屏蔽层形成流程，该流程依次包括以下步骤：
S1、清洗，对将要电镀的工件进行清洗，去除工件表层的杂质；
S2、喷涂，对清洗后的工件喷涂感光油墨；
S3、烘烤，对已喷涂感光油墨的工件进行烘烤；
S4、固化，对已烘烤结束的工件进行感光油墨的光照固化；
S5、激光雕刻，对工件表层固化后的感光油墨进行激光雕刻。
2.如权利要求1所述的电镀屏蔽工艺，其特征在于：所述S2喷涂步骤中，需先将清洗后的工件插入待喷盘中，接着再进行感光油墨的喷涂，所喷涂的感光油墨层的厚度为0.02-0.03mm。
3.如权利要求2所述的电镀屏蔽工艺，其特征在于：所述S3烘烤步骤中，烘烤温度为120-130℃，烘烤时间为25-35min。
4.如权利要求3所述的电镀屏蔽工艺，其特征在于：所述S4固化步骤中，工件在5-15KW灯式曝光机中照射30-90s。
5.如权利要求4所述的电镀屏蔽工艺，其特征在于：所述S5激光雕刻步骤中，激光雕刻的误差为±0.02mm。
6.如权利要求5所述的电镀屏蔽工艺，其特征在于：所述烘烤温度为125℃，烘烤时间为30min，所述灯式曝光机功率为10KW，照射时间为60s。
7.如权利要求1-6任一项所述的电镀屏蔽工艺，还包括电镀后的屏蔽层去除流程，该流程依次包括以下步骤：
A1、对电镀后的工件进行清洗；
A2、将清洗后的工件浸入油墨去除槽。
8.如权利要求7所述的电镀屏蔽工艺，其特征在于：所述A2步骤中的油墨去除槽内含有25wt％-35wt％的氢氧化钠。
9.如权利要求8所述的电镀屏蔽工艺，其特征在于：所述A2步骤中油墨去除槽内温度保持在80-90℃，工件浸泡时间为10-15min。
10.如权利要求9所述的电镀屏蔽工艺，其特征在于：所述油墨去除槽内氢氧化钠含量为35wt％，油墨去除槽内温度保持在85℃，工件浸泡时间为13min。
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