[发明专利]一种显示基板、显示装置及显示基板的制作方法在审

专利信息
申请号: 201710011079.1 申请日: 2017-01-06
公开(公告)号: CN106711154A 公开(公告)日: 2017-05-24
发明(设计)人: 张敏;杨成绍;黄寅虎;操彬彬;王文龙 申请(专利权)人: 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/84
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 代理人: 黄志华
地址: 230011 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 显示 显示装置 制作方法
【权利要求书】:

1.一种显示基板,其特征在于,包括栅极、位于栅极之上的有源层,以及位于有源层之上的源极、漏极和数据线,其中,所述源极具有凹形口,所述漏极与所述源极相对设置且具有伸入所述凹形口的条状部,所述凹形口与条状部的间隙形成U形沟道,所述数据线搭接于源极远离凹形口的一端。

2.如权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述源极、漏极和数据线采用SSM掩模板制作。

3.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1或2所述的显示基板。

4.一种显示基板的制作方法,其特征在于,所述方法包括:

在基板之上形成栅极的图形;

在栅极之上形成栅极绝缘层;

在栅极绝缘层之上形成有源层、数据线以及相对设置且形成U形沟道源极和漏极的图形。

5.如权利要求4所述的制作方法,其特征在于,所述在栅极绝缘层之上形成有源层、数据线以及相对设置且形成U形沟道的源极和漏极的图形,具体包括:

在栅极绝缘层上沉积有源层和数据线层;

在数据线层之上形成光刻胶;

采用具有全透光区、半透光区和遮光区的SSM掩模板对基板进行曝光,其中,全透光区与基板上预形成数据线的区域位置相对,半透光区与基板上预形成U形沟道的区域位置相对,遮光区与基板上预形成源极和漏极的区域位置相对;

对基板进行显影并刻蚀出数据线;

对基板进行灰化并刻蚀出有源层;

对基板进行刻蚀形成相对设置且形成U形沟道的源极和漏极。

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