[发明专利]平坦化共用载体框架上的多个阴影掩模的设备和方法

权利要求书

1.一种多掩模对准系统，包括：

载体，其包括第一侧和第二侧以及从所述第一侧到所述第二侧延伸贯通所述载体的多个孔口，其中，每个孔口与包括对准特征的组合的框架和阴影掩模相关联，其中，所述阴影掩模经由所述框架被支撑在所述载体的所述第一侧上，并且所述阴影掩模与所述孔口对准；

对准系统，其位于所述载体的所述第二侧上；

控制器，其能操作地控制所述对准系统，以单独地对准每个组合的框架和阴影掩模，使得所述组合的框架和阴影掩模的所述对准特征与关联于所述组合的框架和阴影掩模的参考对准特征对准，而不是与所述载体或所述组合的框架和阴影掩模的一部分对准；以及

间隔件，其位于所述载体上，并且构造成将每个组合的框架和阴影掩模支撑在所述载体的所述第一侧的表面的上方。

2.根据权利要求1所述的多掩模对准系统，其中，所述间隔件构造成将每个组合的框架和阴影掩模平坦化。

3.根据权利要求1所述的多掩模对准系统，其中，所述间隔件构造成将全部所述组合的框架和阴影掩模相对于彼此平坦化。

4.根据权利要求1所述的多掩模对准系统，其中：

所述间隔件包括穿过所述载体中的开口伸出的调平销；并且

所述调平销固定在所述载体的所述开口中。

5.根据权利要求4所述的多掩模对准系统，其中，所述调平销经由粘合或压配合而固定在所述载体的所述开口中。

6.根据权利要求1所述的多掩模对准系统，还包括能操作地获取包括所述对准特征的图像的至少一个照相机，其中，所述控制器能操作地基于所获取的图像控制所述对准系统。

7.根据权利要求6所述的多掩模对准系统，其中：

所述参考对准特征包括存储在存储器中的参考坐标；并且

所述控制器控制所述对准系统，以将所获取的图像中的所述对准特征与所述参考坐标对准。

8.根据权利要求6所述的多掩模对准系统，还包括对准基板，所述对准基板包括所述参考对准特征且位于所述至少一个照相机与所述组合的框架和阴影掩模之间，其中，所获取的图像还包括所述参考对准特征。

9.根据权利要求1所述的多掩模对准系统，还包括：

对准基板，其包括所述参考对准特征，定位到所述组合的框架和阴影掩模的与所述载体相反的一侧，其中，所述对准特征和所述参考对准特征分别包括第一多个孔和第二多个孔；并且

所述控制器能操作地控制所述对准系统，以单独地对准每个组合的框架和阴影掩模，直至预定量的光穿过所述组合的框架和阴影掩模的所述第一多个孔以及与所述组合的框架和阴影掩模相关联且与所述组合的框架和阴影掩模的所述第一多个孔对准的所述第二多个孔。

10.根据权利要求9所述的多掩模对准系统，其中：

所述第一多个孔中的与所述第二多个孔中的相应一个孔对准的每个孔沿着光路定位；

每个光路包括光接收器；并且

所述控制器根据所述光接收器的输出来判定预定量的光何时穿过所述第一多个孔以及与所述第一多个孔对准的所述第二多个孔。

11.根据权利要求10所述的多掩模对准系统，其中，每个光路还包括光源。

12.根据权利要求1所述的多掩模对准系统，其中：

所述对准系统包括对准台，所述对准台能操作地使至少一个组合的框架和阴影掩模从与所述载体接触的位置移动到与所述载体间隔开的位置，反之亦然，并且所述对准台能操作地沿X、Y和θ方向中的两个或更多个方向调节所述组合的框架和阴影掩模；

X方向和Y方向平行于所述载体的所述第一侧；并且

所述θ方向是围绕作为所述载体的所述第一侧的法线的Z方向旋转的方向。

13.根据权利要求12所述的多掩模对准系统，其中：

所述对准台包括延伸穿过所述载体中的孔的多个销；

当所述销伸出时，所述销将所述组合的框架和阴影掩模定位成与所述载体间隔开；并且

当所述销缩回时，所述组合的框架和阴影掩模与所述间隔件接触。

14.根据权利要求1所述的多掩模对准系统，其中，所述控制器能操作地控制所述对准系统，以同时对准每个组合的框架和阴影掩模。