[发明专利]一种基板承载机构及其使用方法、蒸镀装置有效
申请号: | 201710015553.8 | 申请日: | 2017-01-09 |
公开(公告)号: | CN106637125B | 公开(公告)日: | 2019-04-12 |
发明(设计)人: | 张峰杰;张鑫狄 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50;C23C14/24 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 承载 机构 及其 使用方法 装置 | ||
本发明实施例提供一种基板承载机构及其使用方法、蒸镀装置,涉及蒸镀技术领域。能够解决待蒸镀基板由于承载固定不牢固,而可能导致在蒸镀过程中由于重力变形而发生脱落的问题。包括支撑架,承载件,承载件包括位于承载件前端的承载面,用于搭载待蒸镀基板的边缘,承载件的后端与支撑架固定连接。下压件,下压件的至少一部分设置于承载件的承载面之上,下压件在下压状态下可将待蒸镀基板的边缘压紧在承载件的承载面上。将承载件的后端连接固定在支撑架上,在承载件之上设置下压件,下压件的至少一部分位于承载面之上,下压件在下压状态下能够将待蒸镀基板的边缘压紧在承载件的承载面上,以降低待蒸镀基板的边缘由承载件的承载面上脱落的风险。
技术领域
本发明涉及蒸镀技术领域,尤其涉及一种基板承载机构及其使用方法、蒸镀装置。
背景技术
真空蒸镀是指在真空环境中,将待成膜物质加热蒸发或升华后,使其在低温工件或基片表面凝结或沉积,形成镀层的工艺。在有机显示领域,有机半导体器件如有机发光二极管中的有机功能层大多是使用真空蒸镀的方式进行加工制作,镀膜工艺的好坏是影响有机显示器件功能优劣的关键因素。
现有技术中的蒸镀设备通常将待蒸镀基板水平放置在真空腔室内,其中待蒸镀基板的待蒸镀面向下,在待蒸镀基板的待蒸镀面上贴合包含有待蒸镀图案的掩膜版,蒸镀源设置在掩膜版的下方,蒸镀源在激发状态下将蒸镀材料向上蒸发,其中,蒸镀材料通过掩膜版上的待蒸镀图案中可透过的部分在待蒸镀基板上沉积,从而在待蒸镀基板上形成所需的蒸镀图案。
由于待蒸镀基板的中心为待蒸镀区域,为了避免对待蒸镀区域的蒸镀图案造成影响,对待蒸镀基板进行承载固定的基板承载机构只能够与待蒸镀基板的外侧边缘相接触,这样一来,待蒸镀基板的中心就可能由于重力的作用发生下垂变形,从而影响到待蒸镀基板与掩膜版之间的对位精度,进而影响到蒸镀图案的正确性和镀膜层的均一性,甚至可能由于待蒸镀基板的边缘固定尺寸过小,导致待蒸镀基板脱落的事故。
通过增加基板承载机构在待蒸镀基板边缘的支撑点能够在一定程度上减小下垂变形量,降低待蒸镀基板脱落的可能性,但是并不能解决上述问题,尤其是当待蒸镀基板的尺寸较大时,下垂变形量也会相应增大,现有技术中还可以采用在待蒸镀区域外用粘性胶对待蒸镀基板进行粘贴的方式,将待蒸镀基板背离蒸镀源的一侧与基板承载机构之间粘贴固定,但是这种方式的固定效果有限,待蒸镀基板在蒸镀过程中仍然有脱落的风险,而且在蒸镀完成后基板与胶体分离时容易造成基板破损,增加次品率。
发明内容
本发明实施例提供一种基板承载机构及其使用方法、蒸镀装置,能够解决待蒸镀基板由于承载固定不牢固,而可能导致在蒸镀过程中由于重力变形而发生脱落的问题。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
本发明实施例的一方面,提供一种基板承载机构,包括支撑架,承载件,承载件包括位于承载件前端的承载面,用于搭载待蒸镀基板的边缘,承载件的后端与支撑架固定连接。下压件,下压件的至少一部分设置于承载件的承载面之上,下压件在下压状态下可将待蒸镀基板的边缘压紧在承载件的承载面上。
进一步的,下压件的后端与承载件的后端固定连接,下压件由弹性材料制成,下压件的前端在自由状态下与承载件的前端之间留有用于置入待蒸镀基板边缘的间隙。
优选的,承载件设置有一个,承载件的承载面沿支撑架的长度方向延伸为条状;和/或,下压件设置有一个,下压件沿支撑架的长度方向延伸为条状。
进一步的,在承载件的承载面上设置有防滑结构;和/或,在下压件与待蒸镀基板边缘相接触的表面设置有防滑结构。
进一步的,基板承载机构还包括驱动装置,驱动装置驱动下压件向承载件的承载面移动。
优选的,驱动装置沿支撑架的长度方向设置有多个。
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