[发明专利]一种粒度可控的非晶单分散纳米二氧化硅粉体的制备方法在审
申请号: | 201710031011.X | 申请日: | 2017-01-17 |
公开(公告)号: | CN106744998A | 公开(公告)日: | 2017-05-31 |
发明(设计)人: | 谢志鹏;孙思源;葛一瑶;田兆波;张杰 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | C01B33/145 | 分类号: | C01B33/145;C01B33/12 |
代理公司: | 北京众合诚成知识产权代理有限公司11246 | 代理人: | 朱琨 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 粒度 可控 非晶单 分散 纳米 二氧化硅 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于无机非金属粉体材料领域,具体涉及一种粒度可控的非晶单分散纳米二氧化硅粉体的制备方法。
背景技术
单分散纳米SiO2粉体因其独特性能,目前主要被广泛应用于橡胶、工程塑料、粘结剂、涂料、封装材料、化妆品等工业生产领域。特别地,10-100nm的单分散纳米SiO2粉体可作为锂电池负极硅材料的先驱体;而10-30nm的单分散纳米SiO2粉体由于具有的绝缘性能好、分散性好、对红外光反射率高等特点,使其成为全固态太阳能电池间隔层的理想材料。
制备出纯度高、粒径分布窄、活性高的纳米SiO2粉体是众多科研工作者追求的目标,目前制备纳米SiO2粉体的方法主要有气相法、化学沉淀法、溶胶凝胶法、微乳法液、溶胶种子法等。其中溶胶凝胶法是通过在醇介质中水解含硅有机物来合成单分散SiO2颗粒,与其他方法相比,其具有粉体粒径可控,粒子均匀度高,纯度高,反应过程易于控制,副反应少等特点,因此成为当今最重要的一种制备纳米SiO2粉体的方法。通过溶胶凝胶法制备单分散纳米SiO2粉体虽然较为普遍,但粒径小到10-30nm的SiO2粉体的合成仍然是极具挑战性的课题。如何更有效地解决颗粒硬团聚问题,降低成本,实现粉体粒径的可控性生产等问题仍需进行系统的研究。此外,纳米SiO2粉体表面存在羟基,有很强的亲水性,与有机体系混合时相容性差,难分散;粒径小到10-30nm的SiO2粉体具有更高的表面能,团聚的结合强度更大,一旦团聚,更难分散,这也是限制纳米SiO2粉体规模化生产最重要的瓶颈问题。
1993年公开的美国专利,US5352645,“Silica microspheres,method of improving attrition resistance and use”,制得了粒径在1μm以上的二氧化硅粉体,不能达到纳米级产品的要求。2015年公开的专利,公开号为CN103254665B,“硅烷偶联剂组合物及其制备方法和用途”,利用硅烷偶联剂改性二氧化硅粉体,提高流动性,减少团聚,在一定程度上解决了纳米二氧化硅在有机溶剂中团聚的问题。不过,10-100nm粒径范围内纳米二氧化硅粉体的团聚问题还有待进一步的解决。
发明内容
本发明针对100nm以下纳米非晶二氧化硅粉体表面能高,易团聚等问题,提供了一种粒度可控的非晶单分散纳米二氧化硅粉体的制备方法,其特征在于,该制备方法,包含以下步骤:
(1)在甲醇溶剂中,以含硅有机物为硅源,利用碱催化的Stober法合成二氧化硅溶胶,具体工艺为:在20-70℃恒温温度下,将表面活性剂、氨水与去离子水加入甲醇溶剂中,配制成溶液A;将含硅有机物加入甲醇溶剂中,配制成溶液B;将上述两种溶液分别搅拌1-4h,混合均匀后,将溶液B缓慢滴加到溶液A中并搅拌1-10h,形成二氧化硅溶胶;
(2)将步骤(1)得到的二氧化硅溶胶在空气中陈化24h得到凝胶,并在冷冻干燥机中进行干燥;
(3)将步骤(2)得到的干燥产物与乙醇混合成浆料,球磨1-24h,并在50℃烘箱中干燥,得到粒度可控的非晶单分散纳米二氧化硅化硅粉体,其平均粒径为10-100nm。
步骤(1)中所述硅源为正硅酸甲酯(TMOS)、正硅酸乙酯(TEOS)、三甲基乙氧基硅烷(TMES)、甲基三甲氧基硅烷(MTMS)、二甲基二乙氧基硅烷(DDS)、多聚硅氧烷(PEDS)、倍半硅氧烷(POSS)中的一种或几种。
步骤(1)所述表面活性剂为聚乙二醇(PEG)、聚乙二醇壬基苯基醚(CO-520)、十二烷基硫酸钠(SLS)、十二烷基苯磺酸钠(SDBS)、十二烷基磺酸钠(SDS)中的一种或几种。
步骤(1)所述溶液A中表面活性剂体积分数为0.1-5%,氨水的体积分数为0.5-20%,去离子水的体积分数为0-30%;溶液B中含硅有机物的体积分数为0.5-20%。
步骤(2)所述冷冻干燥的温度为-40℃,时间为48h。
步骤(3)所述干燥产物与乙醇的混合比例为1-10g/20mL。
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