[发明专利]一种耐辐射和高热负载的X射线成像探测器

权利要求书

1.一种耐辐射和高热负载的X射线成像探测器，其用于探测入射的X射线光束的光强分布，包括闪烁体、耦合系统以及可见光探测器，其中，所述闪烁体在所述X射线光束的作用下生成可见光，所述耦合系统将所述可见光传输至所述可见光探测器，从而探测所述X射线光束的光强分布，其特征在于：

所述耦合系统包括全反射式物镜、反射平面镜以及投影透镜组，其中：

所述全反射式物镜包括凸面镜和凹面镜，其中凸面镜中心设有用于通过所述X射线光束的第一通孔，凹面镜中心设有第二通孔，所述全反射式物镜在所述可见光的作用下对所述闪烁体成像，以生成可见光束；

所述反射平面镜上设有与所述第一通孔共轴的用于通过所述X射线光束的第三通孔，所述反射平面镜将所述可见光束反射至所述投影透镜组，并且不反射或吸收所述X射线光束；

所述投影透镜组将接收到的可见光束投影至所述可见光探测器。

2.如权利要求1所述的X射线成像探测器，其特征在于，所述反射平面镜的反射面与入射的可见光束的光轴呈45°角。

3.如权利要求1所述的X射线成像探测器，其特征在于，所述投影透镜组为相机镜头或消色差的复合透镜。

4.如权利要求1所述的X射线成像探测器，其特征在于，所述闪烁体为雅格晶体或其他能够在X射线照射下产生可见光荧光的晶体。

5.如权利要求1所述的X射线成像探测器，其特征在于，还包括用于遮光的外壳。

6.如权利要求1-5中任意一项权利要求所述的X射线成像探测器，其特征在于，所述第一通孔尺寸大于所述X射线光束尺寸，且小于所述全反射式物镜的中心阻挡尺寸。

7.如权利要求1-5中任意一项权利要求所述的X射线成像探测器，其特征在于，使用表面氧化的铝膜将所述第一通孔遮盖。

8.如权利要求1-5中任意一项权利要求所述的X射线成像探测器，其特征在于，所述第三通孔尺寸大于所述X射线光束尺寸，且小于所述全反射式物镜的中心阻挡尺寸。