[发明专利]一种耐辐射和高热负载的X射线成像探测器有效

专利信息
申请号: 201710039152.6 申请日: 2017-01-19
公开(公告)号: CN106802428B 公开(公告)日: 2019-01-01
发明(设计)人: 佟亚军;谢红兰;陈敏;杜国浩;邓彪;朱化春;肖体乔 申请(专利权)人: 中国科学院上海应用物理研究所
主分类号: G01T1/202 分类号: G01T1/202
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人: 邓琪
地址: 201800 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 辐射 高热 负载 射线 成像 探测器
【说明书】:

发明公开了一种耐辐射和高热负载的X射线成像探测器,其用于探测入射的X射线光束,包括闪烁体、耦合系统以及可见光探测器,其中,所述闪烁体在所述X射线光束的作用下生成可见光,所述耦合系统将所述可见光传输至所述可见光探测器,从而探测所述X射线光束,其中:所述耦合系统包括全反射式物镜、反射平面镜以及投影透镜组,其中:所述全反射式物镜基于所述可见光对所述闪烁体成像生成可见光束;所述反射平面镜将所述可见光束反射至所述投影透镜组,并且不反射所述X射线光束;所述投影透镜组将接收到的可见光束投影至所述可见光探测器。本发明提供的X射线成像探测器耐辐射并且耐高热负载,可以用在高功率密度的X射线成像探测领域。

技术领域

本发明涉及一种X射线成像探测器,尤其涉及一种耐辐射和高热负载的X射线成像探测器。

背景技术

在同步辐射成像光束线上,通常使用的X射线成像探测器包括闪烁体,耦合系统以及可见光二维面阵探测器,其中耦合系统可以分为两类,一类是由光纤直接耦合到二维面阵探测器上,另一类通过透射式显微物镜和投影物镜耦合到二维面阵探测器上。前一类的空间分辨率通常较差,适用于对较大物体的低分辨成像,不适用X射线显微成像,后一类是同步辐射显微成像比较常用的方式,但在实际使用过程中,由于同步辐射光通量密度非常高,而透射式显微物镜所使用的光学玻璃容易在X射线照射情况下变色,导致在几天之内光学传输效率严重下降,曝光时间不断增加,为了解决这个问题需要经常更换显微物镜,导致维护费用较高。

然而上述情况还只是在同步辐射单色光的情况下。如果使用同步辐射白光,其光通量密度将提高4个量级以上,这时透射式显微物镜会在毫秒级的时间内变色,因此会非常严重地影响实验效果和效率。另外由于白光的热负载通常会达到几十至上百瓦,这些热负载也会严重影响光学元件的面型,导致分辨率下降。

为了解决以上问题,期望获得一种X射线成像探测器,该X射线成像探测器耐辐射并且耐高热负载。

发明内容

本发明的目的是提供一种X射线成像探测器,该X射线成像探测器耐辐射并且耐高热负载。

根据上述发明目的,本发明提出了一种耐辐射和高热负载的X射线成像探测器,其用于探测入射的X射线光束的光强分布,包括闪烁体、耦合系统以及可见光探测器,其中,所述闪烁体在所述X射线光束的作用下生成可见光,所述耦合系统将所述可见光传输至所述可见光探测器,从而探测所述X射线光束的光强分布,其中:

所述耦合系统包括全反射式物镜、反射平面镜以及投影透镜组,其中:

所述全反射式物镜包括凸面镜和凹面镜,其中凸面镜中心设有用于通过所述X射线光束的第一通孔,凹面镜中心设有第二通孔,所述全反射式物镜在所述可见光的作用下对所述闪烁体成像,以生成可见光束;

所述反射平面镜上设有与所述第一通孔共轴的用于通过所述X射线光束的第三通孔,所述反射平面镜将所述可见光束反射至所述投影透镜组,并且不反射或吸收所述X射线光束;

所述投影透镜组将接收到的可见光束投影至所述可见光探测器。

本发明所述的X射线成像探测器中,所述反射平面镜可以为带用于透过所述X射线光束的通孔的整体,以不反射或吸收所述X射线光束。所述共轴的轴指通孔的开孔轴,通常通孔是由钻头沿着开孔轴旋转推进形成。

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