[发明专利]彩膜基板及其制备方法、触摸屏

权利要求书

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：衬底基板，所述衬底基板的第一侧设置有若干个沿第一方向延伸的第一电极，所述衬底基板的第二侧设置有若干个沿第二方向延伸的第二电极。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述衬底基板上划分有像素区域和非像素区域，所述第一电极背向所述衬底基板的一侧且对应所述非像素区域的位置设置有黑矩阵。

3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一电极和/或所述第二电极为金属网格电极，所述金属网格电极在衬底基板上的正投影落入所述非像素区域内。

4.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一电极为金属网格电极，所述第二电极为透明导电电极。

5.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述衬底基板的第一侧还设置有与所述第一电极同层设置的金属走线，所述金属走线与所述第一电极连接。

6.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述衬底基板的第二侧还设置有与所述第二电极连接的纳米银走线。

7.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述第二电极背向所述衬底基板的一侧设置有偏光片。

8.根据权利要求1-7中任一所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一电极为触摸扫描电极，所述第二电极为触控感应电极。

9.一种触摸屏，其特征在于，包括：如上述权利要求1-8中任一所述的彩膜基板。

10.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括：

在衬底基板的第一侧形成若干个沿第一方向延伸的第一电极；

在所述衬底基板的第二侧形成若干个沿第二方向延伸的第二电极。

11.根据权利要求10所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述衬底基板上划分有像素区域和非像素区域；

所述在衬底基板的第一侧形成若干个沿第一方向延伸的第一电极的步骤之后还包括：

在所述第一电极背向所述衬底基板的一侧且对应所述非像素区域的位置形成黑矩阵。

12.根据权利要求11所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述在衬底基板的第一侧形成若干个沿第一方向延伸的第一电极的步骤包括：

在所述衬底基板的第一侧形成金属薄膜；

对所述金属薄膜进行一次构图工艺以形成所述第一电极的图形，所述第二电极为金属网格状；

所述在衬底基板的第二侧形成若干个沿第二方向延伸的第二电极的步骤包括：

在所述衬底基板的第二侧形成透明导电薄膜；

对所述透明导电薄膜进行一次构图工艺以形成所述第二电极的图形。

13.根据权利要求12所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述对所述金属薄膜进行一次构图工艺以形成所述第一电极的图形的同时，还形成有金属走线的图形，所述金属走线与所述第一电极连接。

14.根据权利要求12所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述在所述衬底基板的第二侧形成若干个沿第二方向延伸的第二电极的步骤之后还包括：

在所述衬底基板的第二侧形成纳米银走线，所述纳米银走线与所述第二电极连接。