[发明专利]抗反射膜、光学部件和光学部件的制造方法有效
申请号: | 201710048404.1 | 申请日: | 2017-01-23 |
公开(公告)号: | CN107024729B | 公开(公告)日: | 2019-10-22 |
发明(设计)人: | 龟野优;槙野宪治 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G02B1/113 | 分类号: | G02B1/113 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 杨小明 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反射 光学 部件 制造 方法 | ||
1.一种光学部件,包括:
透射可见光的基材;
设置在基材上的膜,
其中,所述膜包含多个中空颗粒,所述多个中空颗粒在它们的表面上具有棘状突起,并且
所述膜的折射率为1.14或更小。
2.根据权利要求1所述的光学部件,
其中,所述颗粒的数量平均颗粒尺寸为大于或等于20nm且小于或等于210nm。
3.根据权利要求1所述的光学部件,
其中,所述中空颗粒为二氧化硅颗粒。
4.根据权利要求1所述的光学部件,
其中,所述膜的预先确定的截面中的2000nm2或更大的颗粒间空隙的数量为1/μm2或更少。
5.根据权利要求1所述的光学部件,
其中,光学部件为透镜或棱镜。
6.一种抗反射膜,包括:
中空颗粒,所述中空颗粒在它们的表面上具有棘状突起,并且
所述膜的折射率为1.14或更小。
7.根据权利要求6所述的抗反射膜,
其中,中空颗粒的数量平均颗粒尺寸为大于或等于20nm且小于或等于210nm。
8.根据权利要求6所述的抗反射膜,
其中,中空颗粒为二氧化硅颗粒。
9.根据权利要求6所述的抗反射膜,
其中,抗反射膜的预先确定的截面中的2000nm2或更大的颗粒间空隙的数量为1/μm2或更少。
10.一种中空颗粒的制造方法,所述中空颗粒在它们的表面上具有棘状突起,所述方法包括:
通过在大于或等于3且小于或等于6的pH值的条件下水解硅醇盐,形成在核颗粒的表面上具有棘状突起的核壳颗粒;以及
通过从得到的核壳颗粒去除核颗粒,制成中空颗粒。
11.根据权利要求10所述的中空颗粒的制造方法,
其中,硅醇盐是四烷氧基硅烷。
12.一种光学部件的制造方法,包括:
通过用包含根据权利要求10制成的中空颗粒和有机溶剂的涂料涂敷基材,在基材上制成抗反射膜。
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