[发明专利]抗反射膜、光学部件和光学部件的制造方法

说明书

本发明涉及抗反射膜、光学部件和光学部件的制造方法。一种光学部件包括基材和基材上的膜，所述膜在其表面上包含具有棘状突起的中空颗粒，所述突起的高度为大于或等于3nm且小于或等于20nm，并且，棘状突起的比例为颗粒表面的大于或等于3％且小于或等于30％，膜包含大于或等于50体积％且小于或等于68体积％的中空颗粒。因此，提供兼有低的折射率和低的散射水平的抗反射膜。

技术领域

本公开涉及入射光的散射处于低水平且具有低的折射率的抗反射膜，并且涉及光学部件和光学部件的制造方法。

背景技术

迄今，为了抑制光学器件的光入射和出射界面处的反射，形成了具有几十到几百纳米的厚度且由单个光学膜或具有不同的折射率的层叠的光学膜构成的抗反射膜。为了形成抗反射膜，使用例如为气相沉积和溅射的干膜形成方法以及例如为浸涂和旋涂的湿膜形成方法。

已知作为具有低的折射率的透明材料的例如为二氧化硅、氟化镁和氟化钙的无机材料以及例如为硅树脂和无定形氟树脂的有机材料被用作用于形成抗反射膜的最外层的材料。

还已知为了减小折射率对抗反射膜使用利用1.0的空气的折射率的低折射率膜。能够通过在二氧化硅层与氟化镁层中形成间隙来减小折射率。

日本专利公开No.2001-233611公开了通过由涂料制作膜所制成的抗反射膜，在所述涂料中，混合了球形的基于二氧化硅的中空颗粒和用于相互交联所述颗粒的粘接剂。

日本专利公开No.2013-41275公开了低折射率抗反射膜，其中，通过采用用于由基于二氧化硅的中空颗粒制作膜并然后由粘接剂溶液制作膜使得颗粒被排列且颗粒之间的间隙的尺寸减小的处理，抗反射膜的折射率(nd)减小到约1.25。

在日本专利公开No.2013-41275中所描述的低折射率抗反射膜中，为了减小折射率，最小化粘接剂的量是有效的。在包含少量的粘接剂或者不包含粘接剂的抗反射膜的情况下，为了进一步减小折射率，增加颗粒之间的间隙的尺寸是有效的。但是，在普通的二氧化硅颗粒被排列和设置为相互接触的情况下，颗粒之间的距离基本上等于颗粒的外周的直径。在二氧化硅颗粒被设置而没被排列的情况下，在颗粒之间形成大的间隙，并且，光学散射增加。

发明内容

本公开提供包含具有低的折射率的例如为二氧化硅颗粒的细颗粒的抗反射膜，其中，光散射被抑制并且折射率进一步减小。

光学部件包括基材和基材上的抗反射膜，抗反射膜包含中空颗粒，中空颗粒具有表面和所述表面上的棘(prickle)状突起，突起的高度为大于或等于3nm且小于或等于20nm，棘状突起的比例为所述表面的大于或等于3％且小于或等于30％，并且，抗反射膜包含大于或等于50体积％且小于或等于68体积％的中空颗粒。

如上所述，抗反射膜包含中空颗粒，中空颗粒具有表面和所述表面上的棘状突起，突起的高度为大于或等于3nm且小于或等于20nm，棘状突起对所述表面的覆盖比例为大于或等于3％且小于或等于30％，并且，抗反射膜被大于或等于50体积％且小于或等于68体积％的中空颗粒填充。

根据本公开，提供包含在其表面上具有细的棘状突起的中空颗粒并且具有低的折射率和低的散射水平的抗反射膜以及光学部件。

从参照附图对示例性实施例的以下描述，本公开的其它特征将变得清晰。

附图说明

图1是抗反射膜的示意性截面图。

图2是使用在其表面上不具有突起的颗粒的情况下的抗反射膜的截面图。

图3是用于抗反射膜的中空颗粒的示意性截面图。

图4是在例子1中获得的抗反射膜的截面图。

具体实施方式