[发明专利]一种扩膜机及利用该扩膜机进行激光切割的工艺在审
申请号: | 201710049521.X | 申请日: | 2017-01-23 |
公开(公告)号: | CN106952845A | 公开(公告)日: | 2017-07-14 |
发明(设计)人: | 奂微微;陈浪 | 申请(专利权)人: | 苏州五方光电材料有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L33/00;B23K26/38 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司32224 | 代理人: | 董建林 |
地址: | 215222 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 扩膜机 利用 进行 激光 切割 工艺 | ||
1.一种扩膜机,其特征在于,包括:
工作平台,所述工作平台上具有能够相对所述工作平台升降的扩膜基座;
盖体,所述盖体相对所述扩膜基座开合设置,所述盖体包括盖本体和子盖体,所述盖本体具有相对所述扩膜基座开设的通孔,子盖体相对所述扩膜基座设置,且子盖体能穿过所述通孔与所述扩膜基座接触;
子环和母环,子环设于扩膜基座上,母环设于子盖体上,且子环和母环接触时能够卡合在一起。
2.根据权利要求1所述的一种扩膜机,其特征在于,所述扩膜基座连有加热机构和温度控制机构。
3.根据权利要求1或2所述的一种扩膜机,其特征在于,所述子盖体与所述盖本体之间沿周向设有若干导向柱,所述子盖体连有动力装置。
4.根据权利要求3所述的一种扩膜机,其特征在于,所述盖体铰接于工作平台,所述盖体还设有将盖体固于所述工作平台上的锁定机构。
5.根据权利要求1所述的一种扩膜机,其特征在于,所述扩膜基座、通孔基所述子盖体均为圆形。
6.利用权利要求1-5任一项所述扩膜机进行激光切割的工艺,其特征在于,包括步骤:
(1)在贴膜正面中部贴附至少一个中片,然后将第一晶圆环沿贴膜周缘贴于贴膜正面,形成片材组件;
(2)将片材组件放入激光切割机中,然后用激光束将中片切割成若干小片;
(3)取出片材组件,并将其放入扩膜机中扩膜。
7.根据权利要求5所述的一种激光切割的工艺,其特征在于,步骤(3)还包括步骤:
(3-1)在扩膜基座上放置子环,在子盖体上放置母环,然后将贴膜加热至50-150℃,恒温下置于扩膜基座上,贴膜正面朝上,且第一晶圆环置于工作平台上;
(3-2)合上盖体,盖本体压住第一晶圆环,上升扩膜基座,此时扩膜基座抵住其上部的贴膜,使贴膜扩展,最终带动小片与小片之间的距离扩大;
(3-3)下降子盖体,使子盖体上的母环与子环接触并卡合;
(3-4)打开盖体,取下带有子环和母环的片材组件,冷却。
8.根据权利要求7所述的一种激光切割的工艺,其特征在于,步骤(3-1)中贴膜加热温度为80-90℃。
9.根据权利要求6所述的一种激光切割的工艺,其特征在于,步骤(3)后还包括步骤(4):
将片材组件置于转盘平台上,用第二晶圆环更换第一晶圆环,所述第二晶圆环尺寸小于第一晶圆环的尺寸。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造