[发明专利]间歇式低压表面反应装置

权利要求书

1.一种间歇式低压表面反应装置，包括：反应釜(1)；通过管路，依次与所述反应釜(1)连接的储气瓶(2)、气源(3)；与所述反应釜(1)连接，并用于抽取所述反应釜(1)内部气体的真空泵(4)；与所述反应釜(1)连接，并用于测量所述反应釜(1)内部气体成分的质谱仪(7)；通过电性方式与所述反应釜(1)连接的温度控制器(5)；所述温度控制器(5)包括热电偶(51)、与所述热电偶(51)电性连接的温度控制箱(52)；其特征在于，还包括：设置在所述反应釜(1)内部的冷凝管(11)；填充在所述冷凝管(11)内部的冷却介质(111)；分别设置在所述反应釜(1)两侧的进气口(12)、出气口(13)；通过所述进气口(12)，与所述储气瓶(2)连接的进气管(14)；按照气体流入所述反应釜(1)的方向，依次安装在所述进气管(14)上的流量控制器一(141)、单向阀一(142)；通过所述出气口(13)，与所述质谱仪(7)连接的出气管(15)；按照气体流出所述反应釜(1)的方向，依次安装在所述出气管(15)上的流量控制器二(151)、单向阀二(152)。

2.根据权利要求1所述的间歇式低压表面反应装置，其特征在于，还包括：安装在所述反应釜(1)的顶端，并用于测定所述反应釜(1)内部气体压力的真空规一(6)；安装在所述储气瓶(2)的顶端，并用于测定所述储气瓶(2)内部气体压力的真空规二(8)；设置在所述反应釜(1)与所述质谱仪(7)之间的可调节泄露阀一(9)；位于所述反应釜(1)和所述储气瓶(2)之间的可调节泄露阀二(10)。

3.根据权利要求1所述的间歇式低压表面反应装置，其特征在于，所述气源(3)数目为多个，并且顶端安装有泄露阀(31)和流量控制器三(32)。

4.根据权利要求1所述的间歇式低压表面反应装置，其特征在于，所述热电偶(51)插入所述反应釜(1)的内部，并且所述热电偶(51)表面通过黑色氧化处理。

5.根据权利要求1所述的间歇式低压表面反应装置，其特征在于，所述冷却介质(111)包括但不限于冷凝气体，也可为冷凝液体。

6.根据权利要求1所述的间歇式低压表面反应装置，其特征在于，所述流量控制器一(141)、所述流量控制器二(142)和所述流量控制器三(32)均包括但不限于质量流量计。

7.根据权利要求1所述的间歇式低压表面反应装置，其特征在于，所述单向阀一(142)朝向所述反应釜(1)为开通方向。

8.根据权利要求1所述的间歇式低压表面反应装置，其特征在于，所述单向阀二(152)朝向所述质谱仪(7)为开通方向。