[发明专利]一种用于溅射成膜工艺的掩膜板及溅射装置

权利要求书

1.一种用于溅射成膜工艺的掩膜板，包括掩膜板本体，所述掩膜板本体具有镂空区域，其特征在于，所述掩膜板本体的溅射面上设置有多个微凸起；

所述微凸起的底部为与所述掩膜板本体接触的端部，所述微凸起的底部是封闭的。

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板本体的外边缘为矩形，所述微凸起为条状微凸起，多个条状微凸起沿所述掩膜板本体一条边的长度方向依次排布，且所述条状微凸起的长度方向与该边的长度方向交叉。

3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述条状微凸起为直条状微凸起，所述直条状微凸起包括沿其长度方向延伸的两个侧壁，每个所述直条状微凸起的两个侧壁中位于同侧的第一侧壁均相对所述掩膜板本体呈锐角倾斜。

4.根据权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，各所述直条状微凸起的第一侧壁的倾斜角度相同。

5.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述第一侧壁相对于所述掩膜板本体的倾斜角度为45°～60°。

6.根据权利要求3-5任一项所述的掩膜板，其特征在于，每个所述直条状微凸起还包括沿其长度方向延伸的第二侧壁，所述第一侧壁和所述第二侧壁相互平行。

7.根据权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述第一侧壁的宽度为4～5mm。

8.根据权利要求1-5任一项所述的掩膜板，其特征在于，相邻所述微凸起的底部之间的距离为1～4mm。

9.根据权利要求1-5任一项所述的掩膜板，其特征在于，所述微凸起的顶部为弧面，且所述弧面向远离所述掩膜板本体的一侧凸起。

10.根据权利要求1-5任一项所述的掩膜板，其特征在于，所述多个微凸起均匀分布在所述掩膜板本体上。

11.根据权利要求1-5任一项所述的掩膜板，其特征在于，所述多个微凸起与所述掩膜板本体一体成型。

12.一种溅射装置，包括：基板放置台、用于放置靶材的靶材安装座以及设置在所述基板放置台和所述靶材安装座之间的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板为权利要求1-11任一项所述的掩膜板；其中，所述掩膜板上的微凸起朝向所述靶材安装座设置。