[发明专利]利福霉素S晶体及其制备方法

权利要求书

1.利福霉素S晶体的制备方法，包括以下步骤：

a、将利福霉素S溶解于四氢呋喃中；

b、加入酸性氧化铝搅拌20～50分钟，过滤除去氧化铝，得到四氢呋喃滤液；

c、向上述四氢呋喃滤液中加入环己烷，过滤收集固体，干燥，得到利福霉素S晶体；

所述利福霉素S晶体，在以2θ表示的X-射线粉末衍射谱图上，在5.47±0.20°、6.43±0.20°、7.28±0.20°、7.96±0.20°、8.94±0.20°、10.39±0.20°、13.85±0.20°、14.46±0.20°、15.82±0.20°、16.58±0.20°、17.24±0.20°、17.89±0.20°、18.02±0.20°、18.61±0.20°、19.50±0.20°、20.99±0.20°、22.02±0.20°、23.28±0.20°、24.05±0.20°、25.41±0.20°、26.38±0.20°、28.18±0.20°、28.87±0.20°、28.94±0.20°具有特征衍射峰。

2.根据权利要求1所述的利福霉素S晶体的制备方法，其特征在于：所述利福霉素S晶体，在红外光谱上，在3465.55±10cm^-1、3378.47±10cm^-1、2966.30±10cm^-1、2931.47±10cm^-1、2873.41±10cm^-1、2809.56±10cm^-1、1737.61±10cm^-1、1699.54±10cm^-1、1646.39±10cm^-1、1599.47±10cm^-1、1491.18±10cm^-1、1455.07±10cm^-1、1415.10±10cm^-1、1372.84±10cm^-1、1322.95±10cm^-1、1264.44±10cm^-1、1198.57±10cm^-1、1175.13±10cm^-1、1161.64±10cm^-1、1125.50±10cm^-1、1072.02±10cm^-1、1020.29±10cm^-1、972.93±10cm^-1、946.39±10cm^-1、914.52±10cm^-1、894.23±10cm^-1、875.39±10cm^-1、823.90±10cm^-1、787.01±10cm^-1、768.18±10cm^-1、744.99±10cm^-1、729.06±10cm^-1、689.94±10cm^-1、646.47±10cm^-1、633.43±10cm^-1、614.59±10cm^-1、555.19±10cm^-1、532.01±10cm^-1、476.95±10cm^-1、432.03±10cm^-1处具有特征吸收峰。

3.根据权利要求1所述的利福霉素S晶体的制备方法，其特征在于：采用高效液相色谱分析，所述利福霉素S晶体的色谱纯度超过99.9％，且不含有任何大于0.1％的杂质。

4.根据权利要求1-3任一项所述的利福霉素S晶体的制备方法，其特征在于：步骤a所述四氢呋喃与利福霉素S的体积重量比为1～5︰1。

5.根据权利要求1-3任一项所述的利福霉素S晶体的制备方法，其特征在于：步骤b所述酸性氧化铝与利福霉素S的重量比为0.01～0.05︰1。