[发明专利]表面保护膜、制造方法和衬底加工层叠体有效

专利信息
申请号: 201710063886.8 申请日: 2017-02-04
公开(公告)号: CN107033798B 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 市冈扬一郎;近藤和纪 申请(专利权)人: 信越化学工业株式会社
主分类号: C09J7/25 分类号: C09J7/25;C09J7/20;C09J7/30;C09J183/06;C09J11/04;C09J11/06;C09J11/08
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 杜丽利
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 表面 保护膜 制造 方法 衬底 加工 层叠
【权利要求书】:

1.表面保护膜,其包括基膜和其上形成的树脂膜,所述树脂膜由树脂组合物形成,该树脂组合物包括组分(A)-(D):

(A)由式(1)表示并且具有10,000-100,000的重均分子量的含有硅亚苯基-硅氧烷骨架的树脂,

(B)能够与该含有硅亚苯基-硅氧烷骨架的树脂中的环氧基反应以形成交联结构的化合物,

(C)固化催化剂,和

(D)脱模剂,其选自由聚乙烯、具有500至20000的Mw的有机硅化合物和含有3-40个碳原子的多氟代烷基或多氟代烷基醚基的氟化合物组成的组,其量为0.5-20重量份,相对于100重量份的组分(A),

其中R1-R6各自独立地为C1-C20一价烃基或烷氧基,

a、b、c和d表示对应的重复单元的组成比,为满足以下条件的正数:0a1,0b1,0≤c1,0d1,0.35≤a+c≤0.65,0.35≤b+d≤0.65,和a+b+c+d=1,g为0-300的整数,

X为具有式(2)的二价有机基团:

其中E为选自下述的二价有机基团:

-CH2-,

s为0或1,R7和R8各自独立地为C1-C20一价烃基或烷氧基,t和u各自独立地为0-2的整数,并且

Y为具有式(3)的二价硅氧烷链:

其中R9-R14各自独立地为C1-C20一价烃基或烷氧基,并且j为0-300的整数。

2.根据权利要求1所述的表面保护膜,其中,式(1)中,a+c=0.5并且b+d=0.5。

3.根据权利要求1所述的表面保护膜,其中形成树脂膜的组合物还包括(E)阻燃剂、(F)抗氧化剂和(G)填料中的至少一种组分。

4.根据权利要求1所述的表面保护膜,其中该基膜由聚酯、聚酰亚胺、聚酰胺、聚酰胺-酰亚胺、聚醚酰亚胺、三乙酸纤维素、聚醚砜或聚苯硫醚形成。

5.根据权利要求1所述的表面保护膜,其中0<c<1。

6.衬底加工层叠体,其包括衬底和在该衬底的至少一个表面上设置的根据权利要求1所述的表面保护膜。

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