[发明专利]一种鼓槌石斛的质量检测方法有效

专利信息
申请号: 201710064172.9 申请日: 2017-02-04
公开(公告)号: CN108398515B 公开(公告)日: 2020-09-29
发明(设计)人: 赵田;刘仲健 申请(专利权)人: 蓝标一成(海南)生物科技有限公司
主分类号: G01N30/86 分类号: G01N30/86
代理公司: 北京领科知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11690 代理人: 张丹
地址: 572000 海南省三亚市天涯区海坡*** 国省代码: 海南;46
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摘要:
搜索关键词: 一种 鼓槌 石斛 质量 检测 方法
【权利要求书】:

1. 一种鼓槌石斛的质量检测方法,其特征在于,包括:

1)以ITS-26SE:5’GAATTCCCCGGTTCGCTCGCCGTTAC 3’和

ITS-17SE:5’ACGAATTCATGGTCCGGTGAAGTGTTCG 3’为引物,进行PCR扩增测序,以鉴定待测石斛药材的品种为鼓槌石斛;

2)对样本容量为n的样本进行色谱检测,获取以化学小分子成分夏佛托苷和/或柚皮素作为参照成分的检测数据;

3)对样本分别进行指纹图谱检测,获取鼓槌石斛的全化学成分的指纹图谱峰面积值;

4)以色谱数据中夏佛托苷和/或柚皮素的成分含量值作为响应变量,将指纹图谱中的其它成分的峰面积值作为自变量建立分析模型,通过Lasso(The Least AbsoluteShrinkage and Selection Operator)方法筛选自变量建立化学小分子成分的相关特征指纹图谱模型,其模型为:

其中,yi为第i个响应变量,,是p×1阶的协变量,, 为模型的随机误差项;n为样本量;是一个p维的参数,p为样本的维数;

假定随机误差项服从古典假定,即:

(1)随机误差项具有零均值;

(2)随机误差项具有同方差;

(3)随机误差项无序列相关性;

(4) 服从正态分布, ;

所述随机误差项的方差矩阵是一个对角线为 ,其他地方为0的方阵,是随机误差项的标准差,所述随机误差项的方差矩阵为: ,

是一个 的单位阵;

所述Lasso方法中β是通过式Ⅰ计算实现的: 式I

在式Ⅰ中,n为样本量; 为变量数;为样本的维数;为响应变量;X为 × 的设计矩阵,包含对响应变量有影响的所有候选自变量;λ为调整参数;为惩罚函数; 的含义为公式的截距项,也就是当所有自变量 为0时响应变量的值; 的含义是自变量的系数,即自变量 对响应变量的影响程度。

2.一种鼓槌石斛的质量检测方法,其特征在于,包括:

1)以ITS-26SE:5’GAATTCCCCGGTTCGCTCGCCGTTAC 3’和

ITS-17SE:5’ACGAATTCATGGTCCGGTGAAGTGTTCG 3’为引物,进行PCR扩增测序,以鉴定待测石斛药材的品种为鼓槌石斛;

2)对样本容量为n的样本进行色谱检测,获取以化学小分子成分夏佛托苷和/或柚皮素作为参照成分的检测数据;

3)对样本分别进行指纹图谱检测,获取鼓槌石斛的全化学成分的指纹图谱峰面积值;

4)以色谱数据中夏佛托苷和/或柚皮素的成分含量值作为响应变量,将指纹图谱中的其它成分的峰面积值作为自变量建立分析模型,当色谱数据呈现超高维情形时,首先采用SIS(Sure Independence Screening)方法筛选变量,

SIS方法为

其中, 表示真模型中非零系数的下标集; 表示非零系数的个数;;对于任意给定的 ,的 个元素按绝对值从大到小排列并且定义;此时 ,选取 中下标对应的自变量,使超高维降到d维;

然后通过Lasso(The Least Absolute Shrinkage and Selection Operator)方法筛选变量建立化学小分子成分的相关特征指纹图谱模型,其模型为:

其中,yi为第i个响应变量,y=(y1,y2,...,yn)T,Xi是p×1阶的协变量,X=(X1,X2,..., X n)T, 为模型的随机误差项;n为样本量;β=(β12,...,βp)T是一个p维的参数,p为样本的维数;

假定随机误差项服从古典假定,即:

(1)随机误差项具有零均值;

(2)随机误差项具有同方差;

(3)随机误差项无序列相关性;

(4) 服从正态分布, ;

所述随机误差项的方差矩阵是一个对角线为 ,其他地方为0的方阵, 是随机误差项的标准差,所述随机误差项的方差矩阵为:, 是一个的单位阵;

所述Lasso方法中β是通过式Ⅰ计算实现的:

式I

在式Ⅰ中,n为样本量;为变量数;为样本的维数;y=(y1,y2,...,yn)T为响应变量;X为 的设计矩阵,包含对响应变量有影响的所有候选自变量;λ为调整参数;为惩罚函数; 的含义为公式的截距项,也就是当所有自变量为0时响应变量的值; 的含义是自变量的系数,即自变量对响应变量的影响程度。

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