[发明专利]基板保持模块、基板处理装置及基板处理方法

权利要求书

1.一种基板保持模块，能够接收由搬送机器人搬送的基板，其特征在于，具有：

底座，所述底座具有用于保持基板的保持机构；

罩，所述罩用于覆盖所述底座；

移动机构，所述移动机构使所述罩以离开和接近所述底座的方式移动；

至少一个喷嘴，所述至少一个喷嘴用于在基板被保持于所述保持机构的状态下，向基板的一面或两面供给液体；及

底部件，所述底部件具有底面和侧壁，该侧壁包围所述底面的外周，

在所述罩覆盖所述底座的状态下，所述罩能够在所述底部件的所述侧壁的内侧与所述底部件的所述底面接触，

所述移动机构被构成为，当所述罩覆盖所述底座时：

使所述罩移动至第一位置并暂时停止，然后，使所述罩移动到所述底面附近的第二位置，或者

使所述罩以第一速度移动到第一位置，然后，使所述罩以比所述第一速度小的第二速度移动到所述底面附近的第二位置。

2.根据权利要求1所述的基板保持模块，其特征在于，

所述基板保持模块具有用于使所述底座旋转的回转机构。

3.根据权利要求1所述的基板保持模块，其特征在于，

所述保持机构具有至少一个基板保持销。

4.根据权利要求2所述的基板保持模块，其特征在于，

所述保持机构具有至少一个基板保持销。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的基板保持模块，其特征在于，

所述基板保持模块具有用于排出液体的排液机构。

6.根据权利要求1所述的基板保持模块，其特征在于，

所述侧壁从所述底面的外周向上延伸，在所述底面的上侧配置有所述底座，

所述移动机构使所述罩相对于所述底面进行移动。

7.根据权利要求6所述的基板保持模块，其特征在于，

所述基板保持模块具有用于使所述底座旋转的回转机构。

8.根据权利要求7所述的基板保持模块，其特征在于，

当所述底座被所述回转机构旋转时，所述底部件是静止的。

9.根据权利要求6所述的基板保持模块，其特征在于，

所述基板保持模块具有用于检测有无所述基板的检测机构。

10.根据权利要求6或7所述的基板保持模块，其特征在于，

所述罩通过所述移动机构而移动至所述底面的上方的位置，并且所述液体被从所述至少一个喷嘴供给后存积于所述底部件，由此作为存水弯发挥作用。

11.根据权利要求6所述的基板保持模块，其特征在于，

所述第一位置是比所述底座靠下的位置。

12.一种基板处理装置，其特征在于，具有：

权利要求1～11中任一项所述的基板保持模块；及

多个机器人，所述多个机器人用于向所述基板保持模块搬送基板。

13.一种基板处理方法，其特征在于，具有如下的工序：

打开基板保持模块的罩的工序，所述基板保持模块具有底部件，所述底部件具有底面和侧壁，该侧壁包围所述底面的外周；

将基板放置于在所述罩内配置的基板保持销上，并通过使所述罩移动到所述底部件的所述底面附近或使所述罩移动到与所述底面接触的位置来关闭所述罩的工序；及

打开所述罩，并将配置在所述基板保持销上的所述基板向下一个工序搬送的工序，

关闭所述罩的工序具有：

使所述罩移动至第一位置并暂时停止，然后，使所述罩移动到所述底面附近的第二位置的工序，或者

使所述罩以第一速度移动到第一位置，然后，使所述罩以比所述第一速度小的第二速度移动到所述底面附近的第二位置的工序。

14.根据权利要求13所述的基板处理方法，其特征在于，具有如下的工序：

检测在所述基板保持模块内是否存在基板的工序；及

在所述基板保持模块的所述罩关闭后，向所述基板的正面及/或背面供给液体的工序。