[发明专利]基板保持模块、基板处理装置及基板处理方法

说明书

本发明提供一种存取自由度较高的基板保持模块、基板处理装置及基板处理方法。提供一种能够接收由搬送机器人搬送的基板的基板保持模块。该基板保持模块具有：底座，所述底座具有用于保持基板的保持机构；罩，所述罩用于覆盖所述底座；及移动机构，所述移动机构使所述罩以离开所述底座的方式移动。

技术领域

本发明涉及基板保持模块、基板处理装置及基板处理方法。

背景技术

作为基板处理装置，已知使半导体晶片的表面平坦化的半导体研磨装置。另外，已知对半导体晶片的背面进行研磨的背面研磨装置(例如专利文献1)。在这些基板处理装置中，在基板的研磨处理及研磨后的清洗处理的中途，有时使用暂时地保持基板的临时放置台(基板保持模块)。另外，当在搬送基板的多个机器人之间交接基板时，有时将基板暂时地配置于临时放置台，而在不同的机器人之间交接基板。

现有技术文献

专利文献1：日本特开2014-150178号公报

专利文献2：日本特开2004-327519号公报

专利文献3：日本特开2000-294616号公报

作为以往的基板临时放置台，具有通过外壳包围周围而单元化了的基板临时放置台(例如专利文献2、专利文献3)。在这样的基板临时放置台中，在外壳的特定的场所形成有用于基板的存入取出的开口部。因此，用于存入取出基板的搬送机器人的手臂的进入路径限定于固定的方向。另外，有时也设有用于对基板临时放置台的外壳的开口部进行开闭的闸门。当在基板临时放置台上存在多个用于存入取出基板的开口部的情况下，对各开口部分别设置闸门。因此，基板临时放置台的构造变得复杂，另外尺寸变大。

发明内容

发明所要解决的课题

本发明至少部分地解决上述课题的至少一部分。

根据第一实施方式，提供一种基板保持模块，具有：底座，所述底座具有用于保持基板的保持机构；罩，所述罩用于覆盖所述底座；及移动机构，所述移动机构使所述罩以离开所述底座的方式移动。

根据第二实施方式，在第一实施方式的基板保持模块中，所述基板保持模块具有用于使所述底座旋转的回转机构。

根据第三实施方式，在第一或第二实施方式的基板保持模块中，所述保持机构具有至少一个基板保持销。

根据第四实施方式，在第一至第三中的任一个实施方式的基板保持模块中，所述基板保持模块具有至少一个喷嘴，所述喷嘴用于在所述基板被保持于所述保持机构的状态下，向所述基板的一面或两面供给液体。

根据第五实施方式，在第四实施方式的基板保持模块中，所述基板保持模块具有用于排出液体的排液机构。

根据第六实施方式，在第一实施方式的基板保持模块中，所述基板保持模块具有底部件，所述底部件具有底面和侧壁，该侧壁从所述底面的外周向上延伸且包围所述底面的所述外周，在所述底面的上侧配置有所述底座，所述移动机构使所述罩相对于所述底面进行移动，当所述罩覆盖所述底座时，所述罩能够被移动机构移动，而在所述底部件的所述侧壁的内侧与所述底部件的所述底面接触。

根据第七实施方式，在第六实施方式的基板保持模块中，所述基板保持模块具有用于使所述底座旋转的回转机构。

根据第八实施方式，在第七实施方式的基板保持模块中，当所述底座被所述回转机构旋转时，所述底部件是静止的。

根据第九实施方式，在第六实施方式的基板保持模块中，所述基板保持模块具有用于检测有无所述基板的检测机构。

根据第十实施方式，在第六或第七实施方式的基板保持模块中，所述基板保持模块具有至少一个喷嘴，所述喷嘴用于在所述基板被保持于所述保持机构的状态下，向所述基板的一面或两面供给液体。