[发明专利]像素限定层及其制备方法、OLED基板及其制备方法

权利要求书

1.一种像素限定层的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

在基底上，形成第一膜层，以及通过喷墨打印的方式形成网格状的第二膜层，且所述第一膜层位于第二膜层上；

去除与所述网格状的第二膜层的镂空位置对应的所述第一膜层，并裸露出所述镂空位置处的所述第二膜层的侧边，以形成包括像素限定层的图形；其中，

所述在基底上，形成第一膜层，以及通过喷墨打印的方式形成网格状的第二膜层，且所述第一膜层位于第二膜层上的步骤，具体包括：

在基底上形成第一膜层；

在完成上述步骤的基底上形成，通过喷墨打印的方式形成网格状的第二膜层，且所述第二膜层下沉至所述第一膜层与所述基底之间。

2.根据权利要求1所述的像素限定层的制备方法，其特征在于，所述去除与所述网格状的第二膜层的镂空位置对应的第一膜层，并裸露出所述镂空位置处的第二膜层的侧边，以形成包括像素限定层的图形的步骤，具体包括：

对所述第一膜层和第二膜层进行前烘，之后进行曝光、显影去除与所述网格状的第二膜层的镂空位置对应的第一膜层，并裸露出所述镂空位置处的第二膜层的侧边，最后采用后烘、退火工艺形成像素限定层的图形。

3.根据权利要求1所述的像素限定层的制备方法，其特征在于，所述第一膜层为有机膜层。

4.根据权利要求3所述的像素限定层的制备方法，其特征在于，所述有机膜层包括聚酰亚胺、PMMA光刻胶、聚酰亚胺光刻胶、有机硅光刻胶中的任意一种。

5.根据权利要求1所述的像素限定层的制备方法，其特征在于，所述第二膜层为无机膜层。

6.根据权利要求5所述的像素限定层的制备方法，其特征在于，所述无机膜层包括二氧化硅水溶液体系或者二氧化硅醇溶液体系。

7.一种像素限定层，其特征在于，由权利要求1-6中任一项所述的像素限定层的制备方法制备。

8.一种有机电致发光二极管基板的制备方法，其特征在于，包括权利要求1-6中任一项所述的像素限定层的制备方法。

9.一种有机电致发光二极管基板，其特征在于，由权利要求8所述的有机电致发光二极管基板的制备方法制备。