[发明专利]晶体管装置有效

专利信息
申请号: 201710071802.5 申请日: 2017-02-09
公开(公告)号: CN108231883B 公开(公告)日: 2020-09-25
发明(设计)人: 王泰瑞;张祖强;冯捷威;颜劭安;陈韦翰 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/06;H01L29/10;H01L29/423
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 祁建国;梁挥
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 晶体管 装置
【说明书】:

发明提供一种晶体管装置包括半导体材料层、栅极层以及绝缘层。半导体材料层一体地包括第一导电部、第二导电部、通道部以及第一凸出部。通道部位于第一导电部与第二导电部之间。通道部具有第一边界、第二边界、第三边界与第四边界,其中第一边界与第一导电部邻接,第二边界与第二导电部邻接,而第三边界与第四边界连接第一边界与第二边界的端点。第一凸出部由通道部的第三边界向外凸出。栅极层横越并重叠通道部。栅极层的第一栅极边界与第二栅极边界重叠于通道部的第一边界与第二边界。绝缘层设置于栅极层与半导体材料层之间。

技术领域

本发明涉及一种电子元件,且特别涉及一种晶体管装置。

背景技术

随着电子元件的制作技术的发展,柔性电子产品的研发已越来越蓬勃。柔性电子产品,诸如柔性显示面板,必须克服的主要问题在于电子产品在使用过程中会被不断弯曲,从而导致电子产品中的元件可能因应力的施加而容易损坏。特别是电子元件中,为了实现产品的性能,需要使用半导体材料。很多的半导体材料在承受应力后,其导电性(或是半导体性质)可能改变,这导致了电子元件的操作稳定性不良。举例来说,以半导体材料作为通道层的晶体管元件,可能在受到应力之后发生导通电压(或临界电压)偏移的现象,或是发生漏电流的现象。

发明内容

本发明提供一种晶体管装置,其结构设计有助于减少装置受到应力后发生的不良影响。

本发明的晶体管装置,包括半导体材料层、栅极层以及绝缘层。半导体材料层一体地包括第一导电部、第二导电部、通道部以及第一凸出部。通道部位于第一导电部与第二导电部之间。通道部具有第一边界、第二边界、第三边界与第四边界,其中第一边界与第一导电部邻接,第二边界与第二导电部邻接,而第三边界与第四边界连接第一边界与第二边界的端点。第一凸出部由通道部的第三边界向外凸出。栅极层横越并重叠通道部。栅极层的第一栅极边界与第二栅极边界重叠于通道部的第一边界与第二边界。绝缘层设置于栅极层与半导体材料层之间。

较佳的,在上述晶体管装置中,第一导电部与第二导电部的导电性优于通道部与第一凸出部。

较佳的,在上述晶体管装置中,第一凸出部连接第三边界的连接长度不大于第三边界的长度。

较佳的,在上述晶体管装置中,栅极层包括栅极线与栅极,栅极是从栅极线凸起后伸出的分支,且栅极横越并重叠通道部。

较佳的,在上述晶体管装置中,栅极层与第一凸出部至少部分重叠。

较佳的,在上述晶体管装置中,栅极层的第三栅极边界重叠于所述通道部的所述第三边界。

较佳的,在上述晶体管装置中,栅极层的第三栅极边界还可重叠于第一凸出部的边界。

较佳的,在上述晶体管装置中,第一凸出部的边界即为半导体材料层的边界的一部份。

较佳的,在上述晶体管装置中,半导体材料层还包括第二凸出部,通道部位于第一凸出部与第二凸出部之间。

较佳的,在上述晶体管装置中,第一凸出部从第三边界向外凸出第一凸出宽度,且第二凸出部从第四边界向外凸出第二凸出宽度。

较佳的,在上述晶体管装置中,第一凸出宽度与第二凸出宽度不同。

较佳的,在上述晶体管装置中,第一凸出宽度与第二凸出宽度至少其中之一为非均一宽度。

较佳的,在上述晶体管装置中,第一凸出宽度与第二凸出宽度至少其中之一从第一边界朝向第二边界的变化包括先增加再减少。

较佳的,在上述晶体管装置中,第一导电部与第二导电部各自的掺杂浓度大于通道部与第一凸出部各自的掺杂浓度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于财团法人工业技术研究院,未经财团法人工业技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710071802.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top