[发明专利]一种利用稀土尾砂制备超平抛釉陶瓷砖的方法有效

专利信息
申请号: 201710075825.3 申请日: 2017-02-13
公开(公告)号: CN106747296B 公开(公告)日: 2020-02-21
发明(设计)人: 余峰;陈婧;谭丽;万萍;程磊 申请(专利权)人: 景德镇陶瓷大学
主分类号: C04B33/13 分类号: C04B33/13;C04B33/132;C04B33/34;C03C8/00;C03C8/02;C03C8/14
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地址: 333000 *** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 一种 利用 稀土 制备 超平抛 釉陶 瓷砖 方法
【说明书】:

发明公开了一种利用稀土尾砂制备超平抛釉陶瓷砖的方法,通过采用双层坯体和合理的坯体配方及颗粒级配最大限度的将稀土尾砂作为了坯体的主要生产原料,同时通过提高底釉层的始熔温度可尽量排除了坯体中的气体,并且在面釉层中采用耐磨熔块釉既降低了釉面的熔融温度又保证了釉面的耐磨硬度,最后采用了高温保温的方式用于提升砖体的强度和釉面的平整度。本发明以稀土尾砂为主要原料和耐磨熔块釉,有效实现了废弃物的资源化利用,大幅降低了烧成温度,缩短了烧成周期,显著降低了生产成本,因此具有广阔的市场前景。

技术领域

本发明属于无机非金属材料(陶瓷)领域,具体涉及一种利用稀土尾砂制备超平抛釉陶瓷砖的方法。

背景技术

全抛釉陶瓷砖是传统抛光砖在表层施釉后抛光的产物,与传统抛光砖相比,全抛釉陶瓷砖产品不仅具有良好的抗污性,而且在花色上更为丰富,瓷砖高温烧制后,具有花纹色彩鲜艳,花色品种多样,纹理自然等特点。自从2010年喷墨印刷技术和镜面全抛工艺在建筑陶瓷生产中广泛使用后,全抛釉陶瓷砖的性能得到完美升级,产品集合了抛光砖、仿古砖、瓷片三种产品的优势,具备了抛光砖的光泽度、瓷质硬度,同时也拥有仿古砖的釉面高仿效果,以及瓷片釉面丰富的视觉效果。但是由于目前抛釉砖还是会存在发色不好、气泡多、光泽度欠佳的问题,这些问题已满足不了消费者的需求。同时目前我国稀土尾砂存在日益增多现象,造成了水土流失和环境污染,因此如何合理利用稀土尾砂也成为了比较紧迫的社会问题。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种表面平整、光亮、硬度高的利用稀土尾砂制备超平抛釉陶瓷砖的方法。

为解决以上技术问题,本发明的技术方案是:一种利用稀土尾砂制备超平抛釉陶瓷砖的方法,其特征在于包括如下步骤:

(1)坯体底层粉料的制备:

所述坯体底层粉料组成的质量百分比为:稀土尾砂50~55%、高岭土10~20%、钠长石10~15%、方解石10~15%、硅灰石10~15%;

所述坯体底层粉料的制备工序为:先将稀土尾砂经过破碎、磨碎、酸洗后过120目筛,筛余为0.3%,然后再按坯体底层粉料配方称量原料,混合均匀后装入球磨设备内球磨,出磨浆料导入干燥塔进行干燥,制成坯体底层粉料备用;

(2)坯体面层粉料的制备:

所述坯体面层粉料组成的质量百分比为:稀土尾砂15~25%、高岭土30~40%、钾长石15~20%、方解石10~15%、硅灰石20~30%;

所述坯体面层粉料的制备工序为:先将稀土尾砂经过破碎、磨碎、酸洗后过200目筛,筛余为0.2%,然后再按坯体面层粉料配方称量原料,混合均匀后装入球磨设备内球磨,出磨浆料导入干燥塔进行干燥,制成坯体面层粉料备用;

(3)底釉层原料的制备:

所述底釉层原料组成的质量百分比为:石英30~40%、石灰石15~20%、烧滑石15~20%、氧化铝15~20%、钠长石15~25%;

所述底釉层原料的制备工序为:按底釉层配方称量原料,混合均匀后装入球磨设备内球磨,出磨浆料过250目筛后搅拌均匀,制成底釉层原料备用;

(4)面釉层原料的制备:

所述面釉层原料组成的质量百分比为:石英10~15%、煅烧高岭土15~25%、烧滑石15~20%、氧化铝15~20%、钾长石15~25%、熔块10~15%;

熔块的化学重量百分组成为:Na2O 10%、CaO 20%、ZrSiO4 25%、Al2O315%、SiO210%、B2O3 20%;

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