[发明专利]光刻装置以及物品制造方法有效

专利信息
申请号: 201710078450.6 申请日: 2017-02-14
公开(公告)号: CN107092163B 公开(公告)日: 2020-12-29
发明(设计)人: 米川雅见 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F7/20
代理公司: 北京怡丰知识产权代理有限公司 11293 代理人: 迟军
地址: 日本东京都*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光刻 装置 以及 物品 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光刻装置,其将原版的图案转印到基板,所述光刻装置包括:

电极结构,其被布置为围绕所述基板和所述原版中的一者的侧面;以及

电源,其被构造为向所述电极结构供给交流电压,

其中,所述电极结构包括彼此电绝缘的多个电极组,各个电极组包括彼此电连接的多个电极,并且

其中,所述电源向所述多个电极组供给具有不同相位且频率落在1Hz至1000Hz的范围内的交流电压。

2.根据权利要求1所述的光刻装置,所述光刻装置还包括:

周边构件,其被布置为围绕所述基板和所述原版中的所述一者的侧面,

其中,所述周边构件包括绝缘体构件,并且所述电极结构嵌入在所述绝缘体构件中。

3.根据权利要求2所述的光刻装置,其中,所述周边构件具有平坦表面。

4.根据权利要求3所述的光刻装置,其中,所述多个电极组中的电极之间的阵列间距,小于能够面对所述周边构件的平坦表面的构件与所述表面之间的距离。

5.根据权利要求1所述的光刻装置,所述光刻装置还包括:

气体供给器,其被构造为向所述基板与所述原版之间的空间供给气体,使得在所述空间中形成沿着所述基板的气流。

6.根据权利要求5所述的光刻装置,所述光刻装置还包括:

吹送部,其被布置为围绕所述原版并且吹送气体。

7.根据权利要求1所述的光刻装置,所述光刻装置还包括:

第二电极结构,其被布置为围绕所述基板和所述原版中的另一者的侧面,

其中,所述第二电极结构包括彼此电绝缘的多个第二电极组,各个第二电极组包括彼此电连接的多个第二电极,并且

所述电源向所述多个第二电极组供给具有不同相位的交流电压。

8.根据权利要求1所述的光刻装置,其中,形成所述多个电极组的电极同心地布置。

9.根据权利要求1所述的光刻装置,其中,形成所述多个电极组的各电极径向地延伸。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的光刻装置,其中,所述多个电极组形成电场的驻波。

11.根据权利要求1至9中任一项所述的光刻装置,其中,所述多个电极组形成电场的行波。

12.根据权利要求11所述的光刻装置,其中,所述行波被形成为在从所述基板和所述原版中的所述一者远离的方向上行进。

13.一种物品制造方法,所述物品制造方法包括:

通过使用在权利要求1至9中任一项中限定的光刻装置来在基板上形成图案;以及

对形成有图案的基板进行处理。

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