[发明专利]光刻装置以及物品制造方法有效
申请号: | 201710078450.6 | 申请日: | 2017-02-14 |
公开(公告)号: | CN107092163B | 公开(公告)日: | 2020-12-29 |
发明(设计)人: | 米川雅见 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;G03F7/20 |
代理公司: | 北京怡丰知识产权代理有限公司 11293 | 代理人: | 迟军 |
地址: | 日本东京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光刻 装置 以及 物品 制造 方法 | ||
本发明提供一种光刻装置以及物品制造方法。所述光刻装置将原版的图案转印到基板。所述光刻装置包括被布置为围绕所述基板和所述原版中的一者的侧面的电极结构、以及被构造为向所述电极结构供给交流电压的电源。所述电极结构包括彼此电绝缘的多个电极组,各个电极组包括彼此电连接的多个电极,并且所述电源向所述多个电极组供给具有不同相位的交流电压。
技术领域
本发明涉及一种光刻装置以及物品制造方法。
背景技术
作为将原版(original)的图案转印到基板的光刻装置,可以给出曝光装置、压印装置等。曝光装置是将原版的图案作为潜像转印到基板上涂布或布置的光致抗蚀剂(要转印的材料)的装置。通过对形成有潜像的光致抗蚀剂进行显影来形成抗蚀剂图案。压印装置是通过在原版与基板上涂布或布置的压印材料(要转印的材料)接触的状态下使压印材料固化而使用原版形成压印材料的图案的装置。
在诸如曝光装置或压印装置等的光刻装置中,如果颗粒附着到例如基板、原版和/或要转移的材料上,则可能在要形成的图案中发生不良。光刻装置的腔室中的颗粒可能从腔室的外部进入,或者可能通过例如机器元件之间的摩擦或者机器元件与基板或原版之间的摩擦而在腔室中产生。或者,颗粒可能由要转印的材料而产生。
在气流与构件(诸如基板和原版)的表面之间存在边界层。如果沿气流移动的颗粒从气流的流动线偏离,则颗粒进入边界层。在边界层内,诸如重力、布朗扩散和静电等的对颗粒的影响变得相对较大。由于这些,颗粒可能附着到构件的表面。颗粒对构件的表面的附着力非常弱,因此能够通过外部刺激(静电、气流或振动)容易地使颗粒从构件的表面分离。从基板或原版附近布置的构件的表面分离的颗粒可能附着到基板、原版和/或要转印的材料。
专利文献1是关于压印装置,并且描述了如下的布置:在模具(原版)中包括主凸结构部和副凸结构部,以通过使副凸结构部带电来将异物(颗粒)捕捉到副凸结构部。
在将原版的一部分设置为捕捉部并且通过使捕捉部带电来捕捉颗粒的方法中(如同专利文献1中描述的发明),捕捉到大量颗粒的捕捉部会是颗粒源。例如,当由于某些原因取消带电状态时,并且即使当未取消带电状态时,通过施加诸如静电、气流或振动等的刺激,颗粒也会从捕捉部分离并处于自由。此外,如在专利文献1中,如果将原版的一部分设置为捕捉部,则当操作原版时,颗粒会从捕捉部分离。从捕捉部分离的颗粒可能直接附着到基板或原版,或者可能临时附着到周边构件,然后再次分离,结果附着到基板或原版。
[专利文献1]日本特开2014-175340号公报
[非专利文献1]Masuda,S.,Fujibayashi,K.,Ishida,K.,and Inaba,H.,ElectricEngineering in Japan,92,9(1972).
[非专利文献2]C.I.Calle,J.L.McFall,C.R.Buhler,et al.,Proc.ESAAnnualMeeting on Electrostatics 2008,Paper O1.
发明内容
本发明提供一种有利于减少由颗粒引起的图案转印不良的技术。
本发明的第一方面提供一种光刻装置,其将原版的图案转印到基板,所述光刻装置包括:电极结构,其被布置为围绕所述基板和所述原版中的一者的侧面;以及电源,其被构造为向所述电极结构供给交流电压,其中,所述电极结构包括彼此电绝缘的多个电极组,各个电极组包括彼此电连接的多个电极,并且所述电源向所述多个电极组供给具有不同相位的交流电压。
本发明的第二方面提供一种物品制造方法,所述方法包括:通过使用如在本发明的第一方面中限定的光刻装置来在基板上形成图案;以及对形成有图案的基板进行处理。
通过以下参照附图对示例性实施例的描述,本发明的其他特征将变得清楚。
附图说明
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