[发明专利]液晶显示装置有效

专利信息
申请号: 201710078984.9 申请日: 2017-02-14
公开(公告)号: CN107092113B 公开(公告)日: 2021-05-14
发明(设计)人: 石川智一;仓本侑祈;宫入浩司;小林亮太;杉本胜人 申请(专利权)人: 株式会社日本显示器
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333;G02F1/1362
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 杨宏军;李文屿
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 液晶 显示装置
【权利要求书】:

1.一种液晶显示装置,具有TFT基板、对置基板以及被夹持在所述TFT基板与所述对置基板之间的液晶,所述TFT基板具有扫描线、影像信号线和连接于所述扫描线和所述影像信号线的TFT,所述液晶显示装置的特征在于,

在所述TFT基板,在所述扫描线和所述影像信号线与所述液晶之间形成有有机绝缘膜,

在所述有机绝缘膜与所述液晶之间形成有电容绝缘膜,

在所述电容绝缘膜与所述液晶之间形成有取向膜,

在所述有机绝缘膜与所述电容绝缘膜之间形成有由ITO形成的公共电极,

在所述电容绝缘膜与所述取向膜之间形成有与所述TFT连接的由ITO形成的像素电极,所述像素电极与所述TFT经由形成于所述有机绝缘膜的接触孔而连接,

所述公共电极在所述接触孔存在的位置具有开口部,

在截面中,所述有机绝缘膜从接近所述像素电极与所述TFT的连接部位的一侧起形成有凸部和凹部,所述凸部和所述凹部以夹着所述接触孔的方式各形成2个,

2个所述凸部位于所述开口部,

在形成所述凹部或所述凸部的区域,所述公共电极的第一面与所述有机绝缘膜直接接触,所述公共电极的同所述第一面相反的第二面与所述电容绝缘膜直接接触,从接触孔近旁的凸部到所述有机绝缘膜变为恒定膜厚的部分为止的凹部的宽度为2μm到5μm的范围,从所述有机绝缘膜的接触孔的端部到所述凸部的顶点为止的距离为2μm到5μm的范围。

2.根据权利要求1所述的液晶显示装置,其特征在于,

所述凸部和所述凹部存在于距所述接触孔处的所述有机绝缘膜的端部4到10μm的范围内。

3.根据权利要求1所述的液晶显示装置,其特征在于,

所述凸部和所述凹部存在于距所述接触孔处的所述有机绝缘膜的端部3到8μm的范围内。

4.根据权利要求1所述的液晶显示装置,其特征在于,

所述凸部的顶点与所述凹部的底点的高度差在0.3μm以上且1μm以下。

5.根据权利要求1到4中任一项所述的液晶显示装置,其特征在于,

所述凸部和所述凹部形成于相对于所述连接部位在所述影像信号线的延伸方向上分离的区域。

6.根据权利要求1所述的液晶显示装置,其特征在于,

所述对置基板具有遮光层,所述凸部设置于所述遮光层与所述TFT基板之间。

7.一种液晶显示装置,具有TFT基板、对置基板以及被夹持在所述TFT基板与所述对置基板之间的液晶,该TFT基板具有扫描线、影像信号线和连接于所述扫描线和所述影像信号线的TFT,所述液晶显示装置的特征在于,

在所述扫描线和所述影像信号线与所述液晶之间形成有有机绝缘膜,在所述有机绝缘膜与所述液晶之间形成有电容绝缘膜,

在所述电容绝缘膜与所述液晶之间形成有取向膜,

在所述有机绝缘膜与所述电容绝缘膜之间形成有由ITO形成的公共电极,

在所述电容绝缘膜与所述取向膜之间形成有与所述TFT连接的由ITO形成的像素电极,所述像素电极与所述TFT经由形成于所述有机绝缘膜的接触孔而连接,

所述公共电极在所述接触孔存在的位置具有开口部,

在所述有机绝缘膜与所述取向膜之间,在包含所述接触孔的所述影像信号线延伸方向的截面中,在所述接触孔的锥形部分层叠有用于形成凸部的物质,在所述凸部的与所述接触孔相反一侧形成凹部,所述凸部和所述凹部以夹着所述接触孔的方式各形成2个,

2个所述凸部位于所述开口部,

在形成所述凹部或所述凸部的区域,所述公共电极的第一面与所述有机绝缘膜直接接触,所述公共电极的同所述第一面相反的第二面与所述电容绝缘膜直接接触,

从接触孔近旁的凸部到所述有机绝缘膜变为恒定膜厚的部分为止的凹部的宽度为2μm到5μm的范围,从所述有机绝缘膜的接触孔的端部到所述凸部的顶点为止的距离为2μm到5μm的范围。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日本显示器,未经株式会社日本显示器许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710078984.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top