[发明专利]准分子激光退火装置用基板支撑模块

权利要求书

1.一种准分子激光退火装置用基板支撑模块，包括：

工作台，用于放置基板；

支架，以向上下方向贯通工作台的方式设置，用于将基板装载于工作台上或从工作台上卸载基板；以及

升降驱动部，用于使上述支架升降，

上述准分子激光退火装置用基板支撑模块的特征在于，

上述工作台被划分为规定区域，各个区域形成相互独立的真空吸入区域，上述真空吸入区域以从上述工作台的中央部分开始依次进行真空吸入的方式形成，从而从上述基板的中心部开始依次与上述工作台相接触，

上述真空吸入区域包括：

第一区域，呈四角形状，形成于上述真空吸入区域的中央部分；

第二区域，分别形成于上述第一区域的相向的边角的外侧；

第三区域，分别形成于上述第二区域的外侧；

第四区域，分别形成于上述第一区域的相向的另一边角的外侧；以及

第五区域，分别形成于由上述第二区域、第三区域和第四区域包围的工作台的各个顶点部分，

从第一区域至第五区域依次进行真空吸入，

上述准分子激光退火装置用基板支撑模块包括真空控制部，上述真空控制部按各个区域来控制真空吸入区域的工作，在按各个区域通过压力检查来检查基板的弯曲现象之后，通过个别控制来校正压力，

在上述工作台的上部形成有格子形态的规定的图案，上述图案以按各个区域独立进行真空吸入的方式划分而成，

上述图案是深度为0.2mm～0.4mm、宽度为2.5mm～3.5mm、间隔为4.5mm～5.0mm的凹槽，与上述图案的长度方向垂直地切割的剖面呈矩形形态，

上述支架构成为下部由硬质材质形成且上部由具有弹性的材质形成的双重结构。

2.根据权利要求1所述的准分子激光退火装置用基板支撑模块，其特征在于，上述图案延伸至上述工作台的边缘部，上述工作台的外围部处于开放状态。

3.根据权利要求1所述的准分子激光退火装置用基板支撑模块，其特征在于，

相对于上述工作台的整个区域，上述支架配置有多个，

为引导上述基板的弯曲，形成于上述工作台的中央部分的支架的高度小于设在工作台的外围部分的支架的高度。